中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCN #9384011 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCNは、半導体基板・材料開発用に設計された拡散炉です。高精度・高信頼性で先端材料や加工に対応します。TEL Alpha 303i-KVCNは3ゾーンシステムを内蔵しており、それぞれ独立した温度制御と個別のガス配分により、さまざまな基板の加工をカスタマイズすることができます。1.0kW Eビーム蒸発器と、すべての処理パラメータを制御するためのグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）が付属しています。拡散炉には現場のマスフローコントローラが取り付けられているため、非常に正確で信頼性が高くなります。また、精密な温度制御には垂直抵抗温度検出器（RTD）と熱電対を使用しています。オートキャリブレーションシステムは、最高の精度と再現性を保証します。東京エレクトロンアルファ303i-KVCNは、クローズドループ式圧力制御システムを採用し、加工時に最適なチャンバー圧力を維持します。これにより、処理される材料の制御反応が保証され、反復可能な結果が得られます。炉には高効率の垂直水晶ベルが付属しており、温度の均一性とプロセス歩留まりを向上させます。また、高性能酸素スクラバーを使用してチャンバーから酸素を除去し、処理中の基板の酸化を排除します。さらに、Alpha 303i-KVCNには、プロセスが完了した後にチャックからウェーハを除去するように設計されたシングルウェーハ転送ロボットが装備されています。また、さまざまなサイズのウェーハと互換性があるように設計されています。TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCNは、半導体加工のオールインワンソリューションであり、信頼性の高い正確な拡散炉を求めるメーカーに最適です。高精度、最大の再現性、およびクローズドループ・システムにより、均一な結果と優れた歩留まりが保証されます。