中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9394987 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K
ID: 9394987
ウェーハサイズ: 12"
Furnaces, 12" TEOS.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Kは、半導体製造業で使用される拡散炉とその付属品です。TEL ALPHA 303IKは、拡散プロセスの効率的、低メンテナンス、高性能ソリューションとして機能します。東京電子ALPHA 303 I Kは、ウェーハ全体に均一な温度分布を確保するリニアノズル加熱装置を採用しています。また、精密な温度制御により、優れたウェーハの均一性を提供します。このシステムには、常に最適な熱条件を保証するための高温水晶ヒーターが装備されています。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303IKは、革新的な機能を組み合わせた独自のデジタルヒーティングユニットを採用し、均一な熱供給、プロセス制御の向上、信頼性の高さを実現しています。このマシンは、独立した温度階層制御、パルス加熱制御、および最適な温度機能のためのローカライズされたサーマルサイクル補償を備えています。東京エレクトロンアルファ303i-Kは、精密かつ一定のガス流量のためのガス分布板、適切なガスライン圧力を設定するための調整可能なガス流量板、非臨界熱の低減期間、高度な測定機能など、多くの利点を提供しています。さらに、このツールには最大15の加熱ステージがあり、さまざまな温度範囲に割り当てることができます。TOKYO ELECTRON ALPHA 303IKは、高精度なプロセス結果を提供し、再現可能なプロセス制御を保証するように設計されています。それは200-1100°Cからの広い温度範囲を、例外的な温度の均等性と持っています。また、高度なコントローラは簡潔で直感的なユーザーインターフェイスを備えています。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I Kの拡散アクセサリーは、最適なプロセス品質に最適な条件を提供します。これらのアクセサリーは、熱電対を使用して排気ライン温度を制御するアクティブエキゾーストアセンブリ、エアギャップ排気ダンパー、および適切な排気流量を確保するための排気供給制御を備えています。また、自動クリーニングおよび炉のメンテナンス機能、および埋め込みロギングおよびレポート機能も提供します。要約すると、ALPHA 303IKは優れた拡散炉とその付属品です。その特徴は優秀な温度調整、高い均等性、優秀なプロセス安定性および有効な排気および維持機能を提供します。これらの機能はすべて、最高レベルのプロセス品質と生産性を保証します。
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