中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9394532 を販売中
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ID: 9394532
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2009
Furnace, 12"
Process: Silicon nitride (SiN) deposition process using dichlorosilane‑based chemistry
2009 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-Kは、半導体製造に使用する基板上に各種材料を高速・高精度・低温で薄膜蒸着することができる拡散炉・アクセサリーです。アニーリング、復元、酸化、超薄膜の沈着など、さまざまな用途に適しています。機械の高度の制御システムは温度のプロフィール、時間、圧力、ガスの流れおよび大気の構成のような変数の精密制御を提供します。これにより、高品質で高精度な薄膜を柔軟かつ効率的に生産することができます。TEL ALPHA 303IKは、高性能な並列拡張TEM （TEM）プロセスモジュールを備えています。このモジュールは、1000°Cまでのプロセス温度を正確に制御することができ、幅広い温度プロファイルを提供します。また、熱損失を最小限に抑えるために設計された炉窓と、プロセス全体の温度制御を均一にするための内部温度測定システムを備えています。東京エレクトロンALPHA 303 I Kは、プラチナ、金、酸化ケイ素の薄膜のアニーリング、酸化、成膜などの用途に幅広く使用できます。電子エミッタ表面を保護し、材料の表面粗さを制御するためにも使用できます。さらに、様々な金属、シリコンウェーハ、GaN結晶、ガラスなど、複数の材料に対応しています。ALPHA 303IKは速く、有効、取付け、使用すること容易です。接地シャーシ、高電圧絶縁、リークテストモニタリングなど、ユーザーフレンドリーなタッチスクリーンとさまざまな安全機能を備えています。また、コンパクトでポータブル性に優れ、多種多様な製造工程に最適です。全体的に、Alpha 303i-Kは半導体メーカーのニーズを満たすように設計された高性能の拡散炉とアクセサリーです。高度な制御システムと多種多様なオプションアクセサリーにより、高速、高精度、均一な薄膜成膜が可能で、さまざまな用途に最適です。
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