中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9381863 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Kは、温度精度と均一性を両立させるために設計された拡散炉とアクセサリーです。このユニークな装置は、熱束、対流、温度プロファイルなどを制御するための高度な組込み制御技術（AEC）を備えた業界をリードする拡散炉ソリューションです。TEL ALPHA 303IKには、優れた温度均一性と高精度な温度制御を実現する3ゾーンデュアル高圧強制対流ホットプレート設計が搭載されています。強制対流構成により、室温から1050°Cまでの広範な温度範囲で制御された均一な熱処理が保証されます。この炉には、電源遮断保護、± 1°Cのステップ範囲での温度調整の高精度、最大1400°Cの調節可能な温度範囲を持つ内蔵のピロメーター、優れたプロセス安定性と製品均質性を提供するための高度なAECシステムなど、さまざまな機能が装備されています。AECユニットは、1つのゾーン環境で優れた温度均一性と熱流束を備え、設定された温度で正確な温度制御を可能にします。このマシンは直感的なコントロールパネルで完成しており、複数のユーザーアプリケーションのプロセスパラメータをすばやく調整できます。東京電子ALPHA 303 i Kはまた、窒素と混合ガスの両方のプロセスのための密接な公差を確保するために、高精度のガス供給ツールを提供しています。堅牢な安全機能とアラーム機能を組み合わせることで、幅広い拡散プロセスで高いレベルのプロセス制御とオペレータの安全性を実現します。ユニットは、個々の購入として、または統合拡散資産として利用できます。統合パッケージには、TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K、シングルゾーンコントローラまたはマルチゾーンコントローラ、断熱チャンバー、不活性ガス、リアクタント、保護ガス、および効率的な熱処理のための石英部品の供給ライン、およびリアルタイムのオペレータ監視のための監視と分析が含まれます。結論として、Alpha 303i-Kは、さまざまな温度に敏感なアプリケーションのニーズを満たすために、幅広い機能を備えた高度な拡散炉とアクセサリーです。高度なAECモデル、温度均一性、精密なプロセス制御により、信頼性と効率的な温度処理を必要とするあらゆるラボに理想的な選択肢となります。