中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9381810 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Kは、急速熱処理（RTP）用に設計された拡散炉とアクセサリの組み合わせです。このカスタムエンジニアリングされたソリューションには、温度制御装置、ロードロックシステム、およびトップローディングプロセスチャンバーが含まれます。高度な精度と安定性で信頼性が高く、ユーザーはRTPプロセスで優れた均一性と最適な結果を得ることができます。TEL ALPHA 303IKの温度制御ユニットは、大型のカラータッチスクリーンインターフェースで構成されており、炉の加熱および冷却サイクルを簡単かつ直感的に操作できます。機械は200°C/minまでの調節可能な傾斜率と300-1200°Cから動くようにプログラムすることができます。この制御ツールはまた、高速温度調節のためのPIDアルゴリズムを利用しており、優れた精度と再現性を実現しています。また、東京エレクトロンALPHA 303 I Kの温度範囲は、プロセス中の表面品質の劣化を最小限に抑える低圧動作用に設計されています。TOKYO ELECTRON ALPHA 303IKのロードロックアセットは、モデルを冷却してウォームアップすることなく、基板をチャンバーに素早く効率的に積載できるように設計されています。これにより、ユーザーは一貫した温度体制を維持しながらサーマルサイクル時間を最小限に抑えることができ、複雑なプロセスモジュールや不安定な基板への潜在的な損傷を防ぐことができます。この機器のさらなる利点は、部品の迅速な交換が可能になり、サイクルタイムとメンテナンスコストがさらに減少することです。ALPHA 303 i Kのトップローディングプロセスチャンバーは、RTP用に特別に設計されています。このシステムは高精度で、約2〜5°C/zoneの均一性があり、毎回反復可能で信頼性の高い結果を得ることができます。このチャンバーは冷却時間を短縮するように設計されており、試験走行の間のターンアラウンドを高速化することができます。さらに、チャンバーサイズをカスタマイズすることができ、あらゆる表面積を同じ露出で処理することができます。ALPHA 303IKは完璧なRTPユニットであり、熱処理ニーズに最適な精度、速度、スケーラビリティを提供します。高度な温度制御装置、ロードロックツール、トップローディングプロセスチャンバーにより、あらゆるタイプの熱処理で優れた結果を得るために不可欠な資産です。