中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9381809 を販売中
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ID: 9381809
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2004
Furnace, 12"
MTO
Heater type: VMM-56-002
Gas: Pure N2, SiH4, N2O
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Kは、半導体の研究開発に最適な最先端の拡散炉です。このデバイスは、独自のガス分配システムを備えた石英チャンバーに囲まれたグラファイトサセプターを備えています。この部屋は精密な温度調整を可能にする強烈なPID（プログラム可能なインターフェイス装置）制御された段階のアルミニウムハウジングの内の場所で保持されます。これにより、材料の酸化や拡散などのプロセスを正確かつ繰り返し実行することができます。TEL ALPHA 303IKは、二重壁の石英管と強力な渦電流発電機とクールダウンシステムを利用した3つの密閉発熱体を備えています。これにより、1500°Cまでの厳しい温度制御と均一なガスのカバレッジが可能になり、より一貫した信頼性の高い結果が得られます。さらに、サセプターは異なる材料から作られたサセプターに置き換えることができ、陽極酸化、共鳴技術、SiC蒸着、およびその他の半導体プロセスなど、利用可能なさまざまなプロセスを拡張することができます。東京電子ALPHA 303 I Kには、プラズマ制御装置、ガス流量制御装置、センサーユニット、サンプル熱冷却コントローラ、緊急遮断装置などが含まれています。これにより、安全性が確保され、デバイスまたはサンプルの損傷を防ぎます。さらに、炉の内蔵PCを使用して、一度作成したプログラムを最大128個まで保存でき、テスト済みのパラメータに簡単かつ効率的にアクセスできます。ALPHA 303 I Kは、半導体業界の幅広い用途に最適です。その特徴は、高密度トランジスタ、メモリチップ、プロセッサなど、高精度を必要とする複雑で高性能なデバイスの高収率を実現するための強力なツールです。これにより、デバイス性能が向上し、TEL ALPHA 303 I Kの信頼性と精度の高い拡散炉としての評価が高まります。
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