中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9381804 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRONアルファ303i-Kは、半導体製造用の高品質な拡散炉とアクセサリーです。この装置は1200°Cまで熱処理温度が可能です。それは生産のほとんどの材料とそれに余分長い耐用年数および適合性を与えます高度の拡散炉の造りと組み立てられます。この炉は最先端の安全装置、速い暖房の電源およびより安全な操作およびよりよい効率を一緒に保障する高度の排気システムを特色にします。TEL ALPHA 303IK拡散炉は、チャンバーと呼ばれる3つの主要セクションで設計されています。3つのチャンバーには、プリロードチャンバー、加工チャンバ、ロードロックチャンバーがあります。プリロードチャンバーには、誘導電源、温度コントローラ、および高真空バルブを搭載した発熱体が収納されています。3つのチャンバーはすべて分離され、密閉され、さまざまなタイプの熱処理を実行するための制御環境を提供します。加工室には、無湿室、赤外線ヒーター、電気絶縁材、石英管が装備されています。このチャンバーは、熱プロセスに必要な温度と環境を制御するために使用されます。ロードロックチャンバーは、必要な転送チャンバと圧力バランスを提供します。これは、輸送要件がある場合に必要です。東京エレクトロンアルファ303 i Kには、品質と生産基準を確実に維持するために、一連のセンサーが搭載されています。これらのセンサには、熱電対、圧力センサ、ピロメータ、温度コントローラ、電気テスターが含まれます。これらのセンサにより、基板表面のあらゆる条件を監視することで、オペレータは最大限の精度と効率を達成することができます。ALPHA 303IKに取り付けられたヒートシンクユニットには、4つのクォーツランプが装備されており、エネルギーの損失を最小限に抑えて正確に熱を吸収および伝達することができます。このタイプのヒートシンクマシンは、熱処理の安定性、工具内の均質な温度プロファイル、およびウェーハや基板へのストレスを軽減するための熱循環を保証します。最後に、ALPHA 303 I Kは、コンパクトで堅牢なフレームワークを備えているため、ほとんどの生産現場に適合するように設計されています。コントローラ、ガスライン、冷却水ラインはすべて本体に統合されています。このタイプの建設は、セットアップの実行にかかる時間を短縮し、全体的なコストも削減します。全体として、Alpha 303i-Kは半導体製造に使用される高品質で効率的な拡散炉とアクセサリーです。この汎用性の高いユニットには、最先端の安全装置、高速加熱電源、高度な排気資産が装備されています。それは安全な移動、温度および圧力制御を可能にする3つの部屋のセットと設計されています。最後に、このモデルは、生産現場で簡単にフィッティングするためのユニークなヒートシンク機器とコンパクトな構造を備えています。