中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9373155 を販売中

ID: 9373155
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2006
Vertical LPCVD furnace, 12" Process: TEOS (100) Process wafers I/O Port / SMIF: FOUP No load lock 25-Carrier slots Boat type: Single Main controller (WAVES) Operation screen: Touch screen Gas flow chart: Front and rear M560 Temperature controller Vacuum pressure control: CKD VEC Controller transformer: 208 V, Single phase Heater transformer: 208 V, 3 Phase Gases: Gas 1: N2 Gas 2: N2 Gas 3: O2 Gas 4: TEOS Gas 5: N2 Gas distribution: Basic style: Conventional Tubing material: SUS-316L Tubing finish: VCR Manual valve: CKD Air operated valve: CKD MFC: HORIBA STEC Exhaust distribution: Air operated valve type: IGS Connect Main valve: CKD VEC Cold trap No pump line Wafer / Cassette handling: (16) Cassette storage Cassette In/Out port Cassette handling robot Wafer transfer type: 1 + 4 Fork material: AL2O3 Fork variable pitch Fork wafer presence sensor Elevator handling: Boat elevator Auto shutter Boat rotation Mechanical parts Heating chamber: Heater type: VMM-56-002, 100 wfs (5) T/C Type (5) Spike T/C Furnace cabinets includes clean air flow system Scavenger and water cooling unit Power supply unit (U/P Box): Control unit Transformers SCR Breaker unit FOUP and wafer handling automation: (2) FOUP Load ports FOUP Transfer Stocker: (18) FOUPs FIMS Port KHI Wafer load automation Variable pitch change mechanism with (5) forks Auto tube shutter Boat elevator with boat rotation mechanism Integrated gas system in gas cabinet and TEOS LSC baking system: O2 Gas line TEOS Gas line Purge N2 Vacuum vent Exhaust vent Piping tape heater Main valve type: CKD Hot, P/N: VEC-VH8G-X0101 Vacuum gage Pressure switch Piping: 100 A VAC Does not include: Outer/Inner T/C N2 Load lock N2 Boat cooling shower Dual boat operation B.S Sensor: 0-10 Torr, 0-1000 Torr Cable length: 12 m (Power box) AC Power box: 208V,3 Phase, 4 Wires 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Kは、高品質、低コスト、高スループット半導体製造加工を実現する先進的な拡散炉およびアクセサリ機器です。シングルゾーン炉、ガスデリバリーユニット、オンボードウェハローダー、自動ウェハトランスファーアーム、コントローラを備えています。シングルゾーン炉は、低速、低膨張の石英チューブを使用して、部品の拡散要件を満たし、熱均一性とウェーハ温度の安定性を向上させます。最高使用温度1,100°C (2,012°F)のTEL ALPHA 303IKは、誘電層および金属化層および関連プロセスに適しています。さらに、この機械は革新的な保護大気ガス停滞ツールを備えており、一貫性のある流れと応答を保証し、幅広いガスで最適な性能を発揮します。オンボードウェーハローダーは、効率的かつ自動的にウェーハをアセットに迅速かつ確実にフィードする方法を提供します。大容量・多重荷重オプションの東京エレクトロンALPHA 303 I Kは、さまざまなウエハサイズ・基板に対応しています。自動化されたウェーハトランスファーアームと組み合わせることで、手動でのウェーハハンドリングの必要性を排除し、スループット時間を向上させるALPHA 303IK。操作とメンテナンスが簡単で、直感的にデザインされたメニューとウィンドウを備え、使いやすさを高めています。コントローラは、ランプや浸漬設定、炉運転パラメータ、ガス供給設定などの制御パラメータを提供します。さらに、コントローラを外部PCとインターフェースすることで、プロセスデータのリモート監視と評価を可能にし、プロセスのパフォーマンスと信頼性を確保します。TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Kは、効率的で費用対効果の高い拡散炉とアクセサリ機器を必要とするお客様に最適なソリューションです。シングルゾーン炉、自動ウェーハトランスファーアーム、オンボードウェーハローダー、保護大気ガス停滞ユニット、直感的コントローラを備えています。TEL ALPHA 303 I Kは、完全に自動化され、ユーザーフレンドリーで信頼性の高いパフォーマンスを備え、要求の厳しい半導体製造プロセスに最適です。
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