中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9373155 を販売中
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ID: 9373155
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2006
Vertical LPCVD furnace, 12"
Process: TEOS
(100) Process wafers
I/O Port / SMIF: FOUP
No load lock
25-Carrier slots
Boat type: Single
Main controller (WAVES)
Operation screen: Touch screen
Gas flow chart: Front and rear
M560 Temperature controller
Vacuum pressure control: CKD VEC
Controller transformer: 208 V, Single phase
Heater transformer: 208 V, 3 Phase
Gases:
Gas 1: N2
Gas 2: N2
Gas 3: O2
Gas 4: TEOS
Gas 5: N2
Gas distribution:
Basic style: Conventional
Tubing material: SUS-316L
Tubing finish: VCR
Manual valve: CKD
Air operated valve: CKD
MFC: HORIBA STEC
Exhaust distribution:
Air operated valve type: IGS Connect
Main valve: CKD VEC
Cold trap
No pump line
Wafer / Cassette handling:
(16) Cassette storage
Cassette In/Out port
Cassette handling robot
Wafer transfer type: 1 + 4
Fork material: AL2O3
Fork variable pitch
Fork wafer presence sensor
Elevator handling:
Boat elevator
Auto shutter
Boat rotation
Mechanical parts
Heating chamber:
Heater type: VMM-56-002, 100 wfs
(5) T/C Type
(5) Spike T/C
Furnace cabinets includes clean air flow system
Scavenger and water cooling unit
Power supply unit (U/P Box):
Control unit
Transformers
SCR
Breaker unit
FOUP and wafer handling automation:
(2) FOUP Load ports
FOUP Transfer
Stocker: (18) FOUPs
FIMS Port
KHI Wafer load automation
Variable pitch change mechanism with (5) forks
Auto tube shutter
Boat elevator with boat rotation mechanism
Integrated gas system in gas cabinet and TEOS LSC baking system:
O2 Gas line
TEOS Gas line
Purge N2
Vacuum vent
Exhaust vent
Piping tape heater
Main valve type: CKD Hot, P/N: VEC-VH8G-X0101
Vacuum gage
Pressure switch
Piping: 100 A VAC
Does not include:
Outer/Inner T/C
N2 Load lock
N2 Boat cooling shower
Dual boat operation
B.S Sensor: 0-10 Torr, 0-1000 Torr
Cable length: 12 m (Power box)
AC Power box: 208V,3 Phase, 4 Wires
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Kは、高品質、低コスト、高スループット半導体製造加工を実現する先進的な拡散炉およびアクセサリ機器です。シングルゾーン炉、ガスデリバリーユニット、オンボードウェハローダー、自動ウェハトランスファーアーム、コントローラを備えています。シングルゾーン炉は、低速、低膨張の石英チューブを使用して、部品の拡散要件を満たし、熱均一性とウェーハ温度の安定性を向上させます。最高使用温度1,100°C (2,012°F)のTEL ALPHA 303IKは、誘電層および金属化層および関連プロセスに適しています。さらに、この機械は革新的な保護大気ガス停滞ツールを備えており、一貫性のある流れと応答を保証し、幅広いガスで最適な性能を発揮します。オンボードウェーハローダーは、効率的かつ自動的にウェーハをアセットに迅速かつ確実にフィードする方法を提供します。大容量・多重荷重オプションの東京エレクトロンALPHA 303 I Kは、さまざまなウエハサイズ・基板に対応しています。自動化されたウェーハトランスファーアームと組み合わせることで、手動でのウェーハハンドリングの必要性を排除し、スループット時間を向上させるALPHA 303IK。操作とメンテナンスが簡単で、直感的にデザインされたメニューとウィンドウを備え、使いやすさを高めています。コントローラは、ランプや浸漬設定、炉運転パラメータ、ガス供給設定などの制御パラメータを提供します。さらに、コントローラを外部PCとインターフェースすることで、プロセスデータのリモート監視と評価を可能にし、プロセスのパフォーマンスと信頼性を確保します。TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Kは、効率的で費用対効果の高い拡散炉とアクセサリ機器を必要とするお客様に最適なソリューションです。シングルゾーン炉、自動ウェーハトランスファーアーム、オンボードウェーハローダー、保護大気ガス停滞ユニット、直感的コントローラを備えています。TEL ALPHA 303 I Kは、完全に自動化され、ユーザーフレンドリーで信頼性の高いパフォーマンスを備え、要求の厳しい半導体製造プロセスに最適です。
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