中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9297192 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-Kは、高温アニーリング、CVD、不純物拡散などの汎用性の高いプロセス用途に適した拡散炉およびアクセサリーです。この炉には、信頼性と品質の高い結果を得るためのさまざまな革新的な機能が付属しています。10Cおよび1000Cからの調節可能な暖房および冷却率の炉は1200C/minまでの部屋の温度を特色にします。部屋は有効な熱および電気抵抗の頑丈なグラファイト材料から、組み立てられます。このチャンバー構造は、温度範囲全体で最大+/-5％の優れた温度均一性を保証します。拡散炉には、コントローラとPIDを組み合わせた独自のオートチューニング機能を備えたリアルタイム温度制御システムも搭載しています。これにより、正確な温度制御が保証され、全温度範囲にわたって非常に均一な結果が得られます。TEL ALPHA 303IKのチャンバーには、目詰まりを防ぎ、優れたガス流量均一性を提供するように設計されたガス経路を備えた温度プローブとガス入口が装備されています。また、ウェーハを汚染する可能性のある蒸発汚染物質を低減するための特殊な通気孔もあります。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 i Kには、クォーツ回転ボート棚と最大100ウェーハのローダーシステムも備えています。水晶棚は均等性および熱配分を提供するために理想的です。ロータリー棚はまた、ウェーハが均等に広がって均一性を高めることを保証します。TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Kは、外部から読み込むことができる大きなビューウィンドウも備えています。これはプロセス温度を監視し、チャンバーを開けずに手動で温度を調整するのに最適です。この炉には石英基板ヒーターも備えており、独立して制御することができ、チャンバー全体で精密な加熱が可能です。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I Kは、精密工学と独自の機能により、拡散プロセスに優れた品質と性能を提供します。効率的な熱および電気特性と結合されるユーザーフレンドリーなインターフェイスは信頼でき、質の結果を保障します。これは高精度の拡散炉システムを求めるあらゆる実験室または専門の確立のための理想的な選択です。