中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9282001 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Kは、高度な熱処理とプロセス範囲の拡大を特徴とする最先端の拡散炉とアクセサリーです。この拡散炉は、シリコン、ゲルマニウム、ヒ素ガリウム、窒化ガリウムなどの基材を幅広く処理することができます。この拡散炉には、ランプと浸漬オプション、およびプログラム可能な温度およびガス流量プロファイルなどの高度な制御も付属しています。付属のアクセサリーは、25 mmから300 mmまでの幅広い基板を提供します。入口/出口の結合されたサイズは400と1100ᵒCの間の最高の働く温度較差を提供します。TEL ALPHA 303IKには、過熱警報、金属汚染検出、ガス流量監視などの保護機能が搭載されています。また、メンテナンスを容易にするための高性能の自動クリーンサイクルも備えています。拡散炉は調節可能なチャンバー深さとウェーハサポートシステムで設計されており、プロセス全体で均一で温度分布さえも可能です。拡散炉には、自動流出防止装置とアクティブ冷却システムが装備されており、安全で最適な温度制御が保証されています。さらに、拡散炉は、基板上にリン、ヒ素、窒素などの材料を堆積させたり、特定の基板ハイブリダイゼーションプロセスを実行するようにプログラムすることができます。東京電子ALPHA 303 I K独自の設計により、新興ナノテクノロジーやMEMS製品の高精度ツールとなります。統合された高度なインテリジェントプロセス制御技術により、プロセス結果の再現性と高い再現性が保証されます。さらに、TEL Alpha 303i-K拡散炉はユーザーフレンドリーな機能を提供し、手動設定の変更にかかる時間と労力を削減します。TEL ALPHA 303 I Kは、優れたプロセス制御を提供し、国際的な安全基準を満たすために事前にテストされ、認定されており、メーカーの保証に裏打ちされています。それは良質および信頼できる拡散の炉および付属品を捜す企業のための理想的な選択です。