中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #82006 を販売中
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販売された
ID: 82006
Vertical Nitride Furnace, 12"
OHT Automation
12" SEMI Std – Notch
Wafer Notch Aligner
Carrier Type FOUP: Entegris A300
Buffer capacity: 16 FOUPS
Fork Material: 1+4 Al2O3 Standard
Boat type: (127) slots, 7mm pitch
Boat rotation: installed
Pedestal: Quartz + SiC
System Controller: WAVES
M560A Phase Furnace Temperature Controller
Heater Type: FTP VOS-56-003 4-zone / RT – 1050C
Process Pressure: 190mTorr
2-Boat type operation
Carrier I/D Reader: Asyst RF
Gas Distribution
Fujikin Manual Valve
Fujikin air-operated valves
Mikrolis filter
Kinetics (Unit) Digital MFC
MKS/Asahi Keiki Pressure Transducers
Soft backfill injector installed
Vacuum Exhaust Heated with MKS Heaters
CKD-VEC Vacuum pressure controller
Vacuum Gage – Pressure Controller MKS (Hot) Capacitance Manometer
Main Valve is CKD Combo
Water Cooled Trap
Rapid Cooling Unit
480VAC 3 phase 60 Hz, 250A
120VAC one phase 60Hz, 50A
Power box Top input entrance location
Gas System
N2O 0.5 SLM
N2 (spare) 5SLM
N2 (Spare 5SLM
SiH2Cl2 0.2SLM
NH3 2.2SLM
Pure N2 (130SLM)
N2 Purge Box
Pure N2 –3 1100SLM
Pure N2-4 500SLM
Rapid Cooling Unit
CDA
2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRONアルファ303i-K拡散炉は、シングルウェーハ拡散用に設計された高性能、プロフェッショナルグレードの炉です。これは、基板の配送と処理のための超安定性プラットフォームを提供します。この炉は、最大8インチのウェハサイズで、小型および大型基板の両方で多層エッチングおよび成膜を行うように設計されています。TEL ALPHA 303IKの心臓部は、エネルギー効率に優れた高温加熱チャンバーで、1400°Cまでの温度で急速な熱アニーリングと酸化を実現します。ダイレクトドライブ、高温水晶ランプアレイを使用して、ウェーハの表面全体に均一で一貫した熱分布を提供します。調節可能なステップ温度プロファイルにより、炉室全体の温度勾配を正確に制御できます。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I Kは、デュアルイオンシャイルシールを備えた頑丈なメカニカルフレームで、高温下での均一な熱および運動特性を保証します。また、ロボット要素、自動センサーの配列、独立した大気供給システム、直感的なソフトウェアパッケージなどの付属品が付属しており、ユーザーは簡単に設定をプログラムできます。この炉には、危険な温度差を検出するための複数の温度プローブ、部品の汚染の可能性を検出する圧力センサー、緊急時に炉の動作を停止する真空割込みスイッチなど、さまざまな高度な安全機能が装備されています。TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Kは、高精度クリーンルームオートメーションシステムClean™ E-と完全に統合されており、従来の製造環境と同様にクリーンルーム環境に最適です。Alpha 303i-Kは、高度な拡散プロセスに対して信頼性が高く、再現性が高く、費用対効果の高いソリューションを提供するように設計されています。最先端の設計と高度な安全機能を備えたTEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K拡散炉は、シングルウェーハ拡散機械の頂点です。
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