中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293821540 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Kは、デバイス製造および薄膜成膜に使用するために設計された高性能拡散炉およびアクセサリ装置です。このシステムは、ガス供給の均一な流れと発生熱の均一な分布を確保するために設計されています。熱の分布を制御し、その流れを制御することにより、ユニットは、熱拡散及び蒸着プロセスの両方の高レートを達成することができます。TEL ALPHA 303IKは2つの主要な部分から成っています；拡散炉および付属品機械。拡散炉は、石英石英ライニングと最大1300°Cの温度範囲を持つ高温チャンバーです。また、石英ベルジャーとサンプルのローディングとアンロードのためのワイヤーカップが含まれています。アクセサリーツールには、ガスの流量を調節するマスフローコントローラ（MFC）と、蒸着パラメータを制御する真空アセットが含まれています。拡散炉には高精度のガス流量制御モデルが搭載されており、時間、温度、圧力など様々な蒸着パラメータを設定することができます。MFCは、ガスの流れを変調し、熱拡散プロセスと均一性を最適化するように設計されています。真空装置は、蒸着プロセス中の電子の動きの均一性を保証します。また、東京エレクトロンアルファ303 i Kには高温域の石英ヒーターを装備し、拡散・蒸着に必要な高温を実現しています。東京エレクトロンアルファ303IKは、温度やガス漏れモニター、電気破片を防ぐ安全システム、事故時の自動電源オフ機能など、さまざまな安全機能も備えています。さらに、ユーザーフレンドリーな液晶ディスプレイにより、ユーザーはユニットの設定やパラメータに簡単にアクセスできます。Alpha 303i-Kは、デバイス製造および薄膜成膜アプリケーションに使用され、半導体、LED、およびその他の精密プロセスに適しています。それは高い収穫および質の結果をもたらす信頼でき、有効、および省エネです。このマシンはモジュラーアーキテクチャを中心に設計されており、既存のシステムに簡単に統合できます。