中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293821539 を販売中

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K
ID: 293821539
LPCVD Furnace Process: PYRO.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Kは、半導体デバイス製造におけるドーピング、酸化、アニーリングなどの低温デバイス形成プロセスに最適な拡散炉およびアクセサリーです。この洗練されたシステムは独特な縦の炉、高度の制御技術、強力なコミュニケーションおよび洗練された測定装置を特色にします。TEL ALPHA 303IKの垂直炉設計は、均一な温度、均質化された温度分布、および変化の温度率のより良い制御など、多くの利点を提供します。炉は窒素または水素の大気の下で1000°Cに達することができます。高度な制御技術により、ユーザーはプロセスを正確かつ迅速にプログラムできます。また、正確で信頼性の高い結果を得るためのリアルタイムグラフと詳細なデータロギングも提供します。このシステムの強力な通信機能により、ユーザーはTELネットワークを介して世界中のどこからでも熱環境情報にアクセスしながら、ボタンひとつで炉の機能を遠隔操作することができます。遠隔警報のための信号回線が含まれています。東京電子ALPHA 303 i Kの高精度な測定装置には、温度スキャン装置、圧力センサ、冷却速度計、硫化度検出器が含まれています。このシステムには、高速加熱、長寿命イオンゲージ、自動点火、および正確で高速な測定のための自動圧力安定化などの革新的な機能も含まれています。結論として、TEL ALPHA 303 I Kは、さまざまなデバイス形成プロセスに最適な最先端の拡散炉であり、アクセサリです。それは均一な温度、均質化された温度配分および変更の温度率のよりよい制御を保障する独特な縦の炉の設計を自慢します。また、強力な通信、高度な測定装置、高速加熱や自動圧力安定化などの革新的な機能も備えています。
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