中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293626328 を販売中
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ID: 293626328
Furnace
Process: D-Poly
Process pressure: 73 Pa, 133 Pa
Process temperature: 510°C, 525°C, 530°C
Boat operation: (2) Boat type
Carrier ID Reader / Writer
ASYST ATR9100
Furnace:
Heater type: VMM-56-002 Mid temperature, (5) zones, 500°C - 1000°C
MA901-8FK09-Z250A Temperature controller
Wafer / Carrier handler:
Wafer type: 300 SEMI STD Notch
Carrier type: FOUP / 25-slots
(16) Carriers
Fork type / Material: 1+4 / Al2O3
Boat / Pedestal:
(100) Wafers
Boat material: SiC with CVD coat
Boat type: 117-Slots ladder
Pedestal type: Quartz
Process tube:
Material: Quartz
Inner type: Straight
Internal T/C type: Outer tube interior wall type
Tube sealing: O-Ring seal
Waves controller
Front operation panel
Front MMI and Gas Flow Chart (GFC)
Signal tower, 4-colours
Pressure display unit
Gas cabinet exhaust display unit
M560A Furnace temperature controller
Vacuum system:
Vacuum exhaust
CKD VEC Vacuum pressure controller
CKD VEC Valve
Pressure controller: MKS Capacitance manometer
Pressure monitor: MKS Capacitance manometer
Pump monitor: MKS Capacitance manometer
Gas distribution system:
Type: Integrated gas system
Tubing: Stainless steel
No tubing bends
Tube heater
FUJIKIN Manual valve
FUJIKIN Air-operated valve
MYKROLIS Pressure transducer
Soft backfill injector
Manifold heater
MFC:
SiH4 / 3 SLM
PH3 / 500 SCCM
PH3 / 50 SCCM
PH3 / 30 SCCM
ClF3 / 5 SLM
N2 / 3 SLM
N2 / 5 SLM (x4).
TEL/TOKYO ELECTRONアルファ303i-K拡散炉は、高性能半導体部品の製造に使用される半導体加工装置です。炉はイオン注入、酸化、andannealingプロセスのためにとりわけ設計されています。低温酸化物ストレスによる高精度・高速生産能力を誇り、最大250mmのウエハ径の高品質な均一インプラントを実現しています。TEL ALPHA 303IKには、すべてのプロセスパラメータを正確かつ効率的に制御するための高度な技術が含まれています。特許取得済みのAdvanced Power Control （APC） Equipmentは、プラズマ特性と均一性を厳密に制御する高性能電源と、ガスの流れと温度を正確に制御するDouble-Ti Diffusion （DTD）技術を備えています。直感的なTELVisionモニタリングシステムは、リアルタイムのプロセス監視と診断を提供します。さらに、Advanced Motorized Scanner （AMS）は、25mmウェーハの高精度、高速スキャンを保証します。東京電子ALPHA 303 I Kでは、特許取得済みのダイレクトピロリシス低減（DPR）ユニットを使用しており、低温ピロリシス（化学蒸着）プロセスを使用し、コールドウォール効果やプロセス不均一性を回避します。さらに、オプションのMEMS拡張キットを使用すると、精密な成形とエッチングのために最大10倍の倍率でMEMS（マイクロエレクトロメカニカルシステム）を処理できます。TEL ALPHA 303 I Kには、拡散プロセスのすべての側面を監視および制御するための包括的なアクセサリーが付属しています。このユニットには、エラーのない起動用の自動シャッターマシン、プラズマ生成とインピーダンスマッチングを制御するRF発電機、インピーダンス制御用のEボックス抵抗コントローラ、すべての工具機能を管理するための統合コントローラ、基板温度を制御するための負荷チャンバ、高速ポンプ用の高真空ターボポンプが含まれています。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I Kは、製品のライフサイクルを最大化し、プロセスのメンテナンスを最小限に抑えるために、事故や人員への損傷、サポート構造、周辺環境を防ぐ統合安全資産など、堅牢なビルドと高度な安全機能を備えています。また、メンテナンスや輸送が容易な設計など、使いやすさのための便利な機能も備えています。さらに、この炉は、光学および放射線安全に関するSematech規格の厳しい要件を満たすために認定されています。最先端のALPHA 303 I Kは、最先端のパフォーマンスを提供し、生産ラインのピーク効率を維持します。最先端の拡散オーブン技術と包括的なアクセサリーを組み合わせることで、信頼性、再現性、高品質の加工結果を提供し、生産コストを低く抑え、製品の歩留まりを高めます。
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