中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293618667 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Kは、高いプロセス性能と豊富なアクセサリーを組み合わせた先進的な拡散炉です。この炉には、温度とプロセスパラメータを正確に制御できるいくつかの高度な機能が装備されています。エピタキシー、CVD、 ALDなどの高度な半導体加工アプリケーションに最適です。この炉には、2つのプロセスソースと2つの独立した温度制御ゾーンが装備されています。拡散、バッチ、またはシングルウェーハモードで動作することもできます。この2つのソースは、300°Cから1200°Cまでの温度を供給できるため、さまざまな半導体処理タスクに適しています。統合された暖房部屋にまた高温および均等性の精密があります。ガス混合微調整、圧力および温度安全監視、自動ガスシャットオフ機能などの追加機能により、システムの安全性がさらに向上します。TEL ALPHA 303IKには、イオンミル、ロードロック、堅牢なオートメーションパッケージなどのアクセサリーも多数付属しています。イオンミルは、ウェーハを正確にエッチングするために使用できます。ロードロックは、プロセスの迅速な起動を保証し、プロセスガスの効率的な使用を可能にします。自動化パッケージは炉の操作を簡単にし、ユーザーが簡単にレシピをプログラムしてスケジュールすることができます。結論として、東京エレクトロンアルファ303 I Kは、高いプロセス性能、精度、安全性と堅牢なアクセサリーを組み合わせた先進的な拡散炉です。エピタキシー、CVD、 ALDなどの高度な半導体処理タスクに最適です。さらに、イオンミル、ロードロック、オートメーションパッケージは、プロセスの一貫性と効率性を提供することで、システムをさらにユーザーフレンドリーにします。