中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293606624 を販売中

ID: 293606624
ヴィンテージ: 2005
LPCVD Furnace 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Kは、研究開発用の拡散炉とアクセサリーです。高度な半導体加工のための熱安定性プラットフォームです。炉に300 Torrの働き圧力および2000°Cの最高操作の温度があります。BN55磁気的に強化された石英窓、水素/アルゴン熱切断弁、温度検出用の赤外線サーモグラフィーシステムなどの高度な安全機能を備えています。TEL ALPHA 303IKは、標準ウェーハサイズが6インチ、最大厚さが2000 µmです。アルミナライナー付きの水晶ホットゾーンを備えており、チャンバー内に最大3つの石英を収容することができます。誘電体ヒータープレートを介してウェーハの裏面加熱を可能にし、2チャンネルのµWステージコントローラを備えています。炉は24石英まで制御することができます。また、高度な温度測定と制御機能を備えています。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 i Kは、所定の温度まで加熱するための標準処理時間が10分です。この炉は、さまざまなサイズと形状のウェーハを受け入れることができ、プロセスの最適化を可能にします。また、高効率ICVバルブ、空冷システム、加熱検出器も含まれています。ALPHA 303 I Kは、酸化物誘電体の増殖や接触形成などの低温プロセスに適しています。アニールやメタライゼーションなどの高温プロセスにも最適です。完全に自動化されたモードで動作する機能と、同社のTELプログラミング言語でカスタマイズされたレシピをアップロードする機能を備えています。ALPHA 303IKは、高度な半導体加工アプリケーション向けの信頼性と汎用性の高いツールです。内蔵の安全機能により、安全な操作が保証され、メンテナンス性の低い設計により、歩留まりが向上し、運用コストが削減されます。その高度な温度制御と測定機能は、あらゆる研究開発ラボに最適です。
まだレビューはありません