中古 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H #9097225 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Hは、高度な半導体デバイス製造に使用される拡散炉およびアクセサリ機器です。この最先端のシステムには、高温マルチゾーン加熱チャンバとシングルチャンバーのロードロックユニットを備えた水平炉が含まれています。直径300mmまでのシリコン、シリコン・オン・インシュレーター（SOI）、シリコン・ゲルマニウム（SiGe）ウェハを加工するように設計されています。このマシンは、使いやすいタッチスクリーンインターフェイスを備えた高度なコントローラを備えており、生産者に基本温度、加熱速度、冷却速度、ガス流量、圧力レベルの自動制御を提供します。また、故障または予期しない状況が発生した場合にユーザーに警告するためのハイテクアラームツールも含まれています。この炉は線形誘導加熱アセットを使用しており、さまざまなコイルを使用してウェーハ表面に均一な温度プロファイルを生成し、あらゆる点で正確な温度分布を保証します。加熱および冷却パラメータは非常に低く、非常に高いレベルに調整することができ、アニールや酸化などのプロセスを非常に高いレベルの精度と制御で実行することができます。炉の内部では、温度の不均一性に対処するためにマルチゾーン加熱モデルが使用され、最大7つの独立した温度ゾーン構成が作成されます。また、低熱放射および能動熱管理モジュールを備えており、効率的な熱性能を確保しています。このプロセスは、凝縮を低減し、汚染を防ぐインテリジェントな加湿器でさらに強化されています。最後に、TEL Alpha 303i-Hには、ウェーハ間汚染を最小限に抑えるシングルチャンバーロードロック装置と、異なるガスの濃度を正確に測定できる複雑なガス環境監視システムが搭載されており、拡散プロセスの最適な性能を保証します。TOKYO ELECTRON Alpha 303i-Hは最先端の拡散炉とアクセサリユニットで、より高い歩留まりを実現するために必要な精度、精度、制御をユーザーに提供します。