中古 TEL / TOKYO ELECTRON A303i #9271020 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON A303iは、半導体製造プロセスの熱処理効率と品質を最大化するために設計された最先端の拡散炉およびアクセサリーです。TEL A303iは、脆性膜、RTP、 PAE、 ALD、カプセル化、およびSiC酸化プロセスに優れています。超高スループットのプロトタイピングから、生産用のスイート構成まで、さまざまなアプリケーションに適しています。東京エレクトロンA 303は、ウェーハの迅速かつ安全な積み下ろしのためのアルミナ被覆負荷ポートを備えたベース炉アセンブリを備えています。負荷ポートには、均一性を向上させるために、引込められた静電チャックシールドが並んでいます。ウェーハローダーは、1サイクルで最大200個の4インチ、150個の6インチ、80個の8インチのウェーハを転送することができます。チャックプレートは、均一な温度制御のためのヒーターでも設計されています。A303iは完全にプログラム可能な排気温度調整および自動排気制御が付いている温度調節器が装備されています。空冷ピロメーターにより、正確な温度測定が可能です。また、クローズドループ処理フィードバックループシステムを備えており、さまざまなセンサーからのフィードバックを使用してプロセスパラメータと品質を維持します。炉にデータ分析および変数調節のための高度のソフトウェアインターフェイスがあります。温度、時間、ガスの流れ、圧力などのパラメータは、すべてタッチスクリーンコントロールパネルの助けを借りてリアルタイムで調整することができます。このソフトウェアには、プロセスパラメータを表示し、トラブルシューティングを支援するリアルタイムデータビューアも含まれています。また、ガス負荷変動を低減する差動ポンプ、チャンバーを急速に冷却するための「急速冷却」オプション、デュアルゾーン温度制御、安全な温度ランプのためのプロセス制御ヒートランプなどの機能を提供する東京エレクトロンA303i。安全性に関しては、TEL A 303 IにはULおよびCE認証があり、ほとんどの生産環境で安全に使用できます。また、耐酸性ステンレスフレームワークと耐久性のある石英シールを備えており、腐食や漏れを防ぎます。TEL/TOKYO ELECTRON A 303 Iは様々な熱処理に最適なツールです。優れたプロセス均一性、高スループット、正確な温度制御、およびプロセスデータ分析機能を提供し、半導体製造ニーズを最も効率的に満たします。