中古 TEL / TOKYO ELECTRON A303i #9261571 を販売中

TEL （TOKYO ELECTRON） TEL/TOKYO ELECTRON A303i拡散炉は、エピタキシャルフィルムをシリコン基板に堆積させるための特殊な半導体製造ツールです。それはマイクロプロセッサおよび他の電子部品の製作の破片メーカーによって一般に使用されます。TEL A303iは耐熱セラミックヒーターパネルに囲まれた高温熱室を備えています。熱室の内部では、堆積している材料を拡散させるために加熱されたるつぼが使用されます。基板は熱室の核に置かれ、セラミックヒーターパネルによって均等に加熱されます。さらに、マルチゾーン温度制御機能により、基板表面全体の温度均一性と安定性を実現します。TOKYO ELECTRON A 303 Iの温度範囲は300-1400°Cで、温度は± 1°C以内で制御できます。TEL/TOKYO ELECTRON A 303にはマスフローコントローラ（MFC）も内蔵しており、加熱したるつぼに反応ガスを正確に届けることができます。MFCは、チャンバーに供給されるリアクタントガスの量を調節し、エピタキシャル層の蒸着プロセスにおける再現性と精度を確保します。さらに、チャンバー内の圧力は、内蔵の真空ポンプで正確に制御することができます。高品質なエピタキシャル層の蒸着プロセスを実現するために、東京電子A303iには高度なガスシャワー装置が搭載されています。このシステムは、2つの独立したガスラインで構成され、調整可能なシャワー圧力を備えています。これにより、基板全体に均一な層の厚さと均一なガス分布が保証されます。さらに、A 303 Iには過温度や過圧警報など、いくつかの安全機能が装備されています。また、ガスフローや温度などの蒸着プロセスに関するパフォーマンスデータを提供するリアルタイム監視ユニットも含まれています。この機能により、より大きなプロセス制御と規制が可能になります。要するに、TEL A 303 I拡散炉は、シリコン基板上の高品質のエピタキシャル層の製造に適した特殊な半導体製造ツールです。高度なガスシャワー装置とマルチゾーン温度制御機能を備えており、精密かつ再現性のある層の堆積プロセスを可能にします。さらに、内蔵の安全機能により、ユーザーの安全性を最大限に高めます。