中古 TEL / TOKYO ELECTRON A303i #9241293 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON A303iは、半導体産業で使用される先進的な拡散炉です。これにより、重要で高効率なアプリケーションでの迅速で再現性の高い処理が可能になります。炉の特徴は1200°Cまでの制御されたatmospherを可能にしつつ、精密目的で重要な低圧および温度の勾配を特色にします。これに加えて、高い信頼性、効率的な熱管理、忠実な再現性を提供し、次世代半導体デバイスの製造を可能にします。炉は2つの主要な部品から成っています。これらは拡散チャンバーと周辺ユニットです。拡散チャンバーは、サンプルを配置する側である上半分と下半分で構成されています。下半分には、内部に絶縁された高温チャンバーがあり、周辺ユニットにある交換器への絶縁クォーツチューブがあります。この交換器は、サンプルの温度を一定に保つだけでなく、オペレータに快適な環境を提供するために使用されます。周辺機器には、TEL A303iの電子制御システムが搭載されています。ユーザーインターフェイスはタッチパネルを介しており、ユーザーへのメインインターフェイスとして機能します。圧力制御、温度制御、時間設定、プログラムオプションなど、さまざまな設定があり、最適な設定を選択できます。ペリフェラルユニットにはデータレコーダーが内蔵されているため、オペレータはそれぞれの実行中に生成されたデータを正確に追跡できます。TOKYO ELECTRON A 303 Iはパワフルでプログラマブルな加熱速度を備えています。精度と再現性を維持しながら、迅速な加工が可能です。また、処理時間に関係なく、拡散チャンバ内で一貫した温度を維持することができます。主要部品に加えて、TEL/TOKYO ELECTRON A 303 I Diffusion Furnaceには、炉の動作に不可欠なアクセサリーも数種類あります。これらは、拡散プロセスに関連する物質の中で、炉の浄化ユニットと石英チューブ交換ユニットを含みます。これらのアクセサリーを使用することで、拡張操作とさらに正確で再現性のある結果が得られます。TOKYO ELECTRON A303iは、高精度・高効率の用途向けに設計された、パワフルで先進的な拡散炉です。パワフルで信頼性の高い部品で構築された303 Iは、要求の厳しい半導体および電子産業に最適です。