中古 TEL / TOKYO ELECTRON A303i #293667428 を販売中
URL がコピーされました!
タップしてズーム
ID: 293667428
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2004
Vertical diffusion furnace, 12"
LTO Poly
Process: DIFF
Gasses: SIH4, SI2H6, 1% PH3/N2, LTO520, CLF3
(2) Load ports
Loader arm
Transfer arm
FUJIKIN Gas box
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
Missing parts:
Part number / Description:
Q400-183245 / VAC Line 1
Q400-161162 / VAC Line 2
Q230-021126 / Turn table
Q400-252325 / Flange
Q310-260595 / Outer guide ring
Q460-006564 / Support in ring
(3) Q320-082547 / MFC 16 Board
(4) Q320-060982 / DIO-I/F Board
Q320-083478 / DIO-ILK Board
Q320-072066 / GSR03 Board
Q320-162843 / MC-31255 Board
Q230-133460 / Wafer transfer
Q320-139834 / Board-control
Q400-236002 / Sol valve
Q310-230827 / Fork 1
Q310-230826 / Fork 2
Q310-125642 / Fork 3
Q310-230825 / Fork 4
Q310-230824 / Fork 5
Operating system: Linux
Power supply: 208 V
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON A303i拡散炉は、アクセサリーを一体化した完全自動熱拡散装置です。半導体製造プロセスで最高の品質と歩留まりを提供するように設計されています。TEL A303iには、効率的で信頼性の高い熱拡散プロセスを提供する強力な蒸着チャンバが含まれています。RTP （Rapid Thermal Processing）を使用して、拡散プロセスガスを急速に加熱して事前設定された温度を上回り、均一で再現性の高い熱拡散プロセスを提供します。排ガス速度も調整可能で、正確なドーピング濃度と拡散プロセスの正確な制御を可能にします。このシステムには、窒素およびプロセスガス入力用の自動シャッターと、in-situ degasおよびクールダウン手順が含まれています。プロセス全体はコンピュータ制御チャンバーによって継続的に監視され、安全で安全な操作を保証します。東京電子A 303私はまた、内蔵の化学蒸着（CVD）チャンバーを備えています。CVDチャンバーは、堆積ゾーンにシリコンとゲルマニウム源を導入するための誘導ユニットで構成されています。また、複数の蒸着源を備えており、広範囲にわたって均一な蒸着を提供します。誘導された磁場は均一性を提供し、最適な性能のための沈殿パラメータの精密な制御を可能にします。A303iには、室内非破壊プロセス特性評価用の計測プラットフォームも装備されています。圧力センサ、ガスパネル、温度パネル、デジタルビデオカメラなどのオンボード機能、室内分析用の検査プレートが含まれています。これにより、基板パラメータとプロセスステップの正確な測定と分析が可能になります。TEL/TOKYO ELECTRON A 303 Iマシンには、さまざまなアクセサリーやサンプルローディングオプションも用意されています。それは100mmから300mmのウエファー、また200mmから400mmの平らなパネルを受け入れるように構成することができます。この構成により、幅広い生産要件とアプリケーションに最大限の柔軟性を提供します。303 Iは、大量生産とプロトタイピング生産の両方に理想的なソリューションであり、効果的な熱拡散のための効率的で信頼性の高いツールを提供します。TEL A 303 Iは、半導体生産プロセスに最適なソリューションです。
まだレビューはありません