中古 MRL 1148G2 #9192211 を販売中

MRL 1148G2は、最高品質のシリコンウェーハの製造用に設計された拡散炉およびアクセサリーです。この炉は、アルミナ、オリビン、またはグラファイト加熱室で構成されています。最大動作温度は1,800°Cで、15kWから19kWまでのパワーを持つ電子ビームを提供します。統合されたプログラマブルコントロールにより、拡散プロセスの高い再現性を得るために必要なプロセスパラメータを選択できます。統合された赤外線ピロメーターはサンプル領域の温度を均一にし、内部酸素流量計は望ましい拡散プロセスの大気を維持するのに役立ちます。MRL 1148 G2には、拡散プロセス中の脆い酸化物や応力の形成を回避するための急速な冷却プロセスと、拡散プロセスの大気を監視するための石英バブラーも含まれています。水晶バブラーはプロセス部屋の望ましい制御された大気を検出するのに使用され、酸素の連続的な流れを提供します。拡散炉とともに、グラファイトサセプターとクォーツウェハガイドも付属しています。1148G2に含まれるサセプターは、拡散プロセス中にウェーハを均一に加熱します。クォーツウェーハガイドは、シリコンウェーハがプロセス全体の間にサセプターの下端に確実に保持されることを保証します。サセプターを炉内に再配置する機能により、複数、単一、または特殊なウェーハ拡散が可能です。1148 G2は、ユーザーへの害を避けながらプロセス効率を維持するための真空断熱バリアを含む安全機能で設計されています。酸素流量計は、酸素が検出されないとガスの流れを遮断し、危険な爆発や火災を防ぎます。この断熱バリアと酸素遮断により、拡散プロセスが完了した後にウェーハをさらに冷却することができます。MRL 1148G2はEnergy Star認証を取得しており、他の拡散炉と比較して拡散プロセスを完了するために少ないエネルギーを必要とします。統合された粉体冷却システムは、不要な酸化物や化学不純物の形成を防ぎ、拡散プロセス全体の終わりに完璧な結果を保証します。