中古 KOKUSAI Vertron III #9242183 を販売中

KOKUSAI Vertron IIIは、あらゆる種類の拡散プロセスに優れた性能を提供する拡散炉および関連アクセサリーです。それは大きく、3部屋の設計および内部、プログラム可能な温度調節器を特色にします。1つ目のチャンバは基板の積載に使用され、2つ目のチャンバ内のエレメントによって制御された温度に加熱されます。第三のチャンバーは、不活性ガス雰囲気と一定の温度を維持する発熱体が含まれています。この炉は、原子が物質の中を移動して結合を形成することによって拡散過程を起こすことによって機能します。材料を新しいレベルの硬度や電気特性に変換することができます。拡散プロセスは、ドーパント（元素）、熱、圧力の組み合わせを使用して、原子間のダイナミックな接続を形成します。このプロセスは、半導体デバイスの製造を含む幅広い用途に使用されています。このマシンは、低温プロセスからポリシリコンアニーリングや窒化ケイ素ストライピングなどの高温プロセスまで、あらゆる種類の拡散プロセスを実行することができます。薄膜成膜などのプロセスにも適しています。機械は温度、圧力およびドーパントの均質性の優秀な均等性、また優秀な熱応力の救助を提供します。Vertron IIIは一貫して繰り返すことができる一貫した、よく制御された拡散環境を提供します。安全機能やプロセス監視機能も備えています。例えば、有毒な発煙の蓄積を防ぐための送風機システムと過熱制御システムを備えています。また、拡散プロセスを容易にするユーザーフレンドリーなインターフェースも備えています。KOKUSAI Vertron IIIは、拡散プロセスに最適な効率的で信頼性の高いツールです。それは十分に制御された変数と信頼できる拡散の結果を提供し、さまざまな材料および適用のための理想的な環境を作成します。このマシンには、最先端の安全機能と一貫した結果を得るためのコントローラも装備されています。