中古 KOKUSAI Vertron III #9232523 を販売中

KOKUSAI Vertron IIIは、拡散炉とその付属品の分野でリーダーです。これは、ドーパント拡散、酸化エッチング、金属蒸着などのウェーハ製造プロセスのための高度で費用対効果の高いツールです。この炉は、対流および放射加熱の両方の方法を提供し、超高真空および不活性ガス環境で最大1000°Cの精密な温度制御を可能にします。高度な制御装置により、複数のウェーハを迅速かつ効率的に処理できます。Vertron IIIは、さまざまな構成を可能にするモジュラー設計を備えており、柔軟でカスタマイズ可能なシステムです。コアコンポーネントである拡散炉は、均一な加熱と断熱のための余分な厚い壁で構築され、追加の安定性のための調整可能なサポートスタンドが装備されています。その特別な拡散の部屋に優秀な温度の均等性を保障するために作り付けのバイパス部屋および改善された冷却装置があります。その他のアクセサリーには「、リフトテーブル」と呼ばれる温度センサーを内蔵したリフトメカニズム、手動ローディングマシン、自動ウェーハ転送ツール、オープンベース、およびクローズドベースの性能オプションがあります。KOKUSAI Vertron IIIの加熱アセットには、上部対流ヒーターと2つの独立した放射ヒーターの両方が含まれており、熱均一性を調整し、方向流量の制御を改善することで空室拡散を高めることができます。このモデルには、均質で安定した温度分布のために最大20のセグメントがあります。さらに、その高度な安全対策には、炉の温度を監視するハイテク制御装置、デジタル安全アラーム、および調整可能な手動安全弁が含まれます。その内部圧力調整されたハウジングは、プロセス条件の正確な制御と均一性を保証し、炉の容量は互換性のあるハードウェアとソフトウェアで調整可能です。要するに、Vertron IIIは、最適な性能、効率的な操作、および安全性を備えた拡散炉とその付属品のための最上位の製品です。その先進的な機能により、半導体業界のリーダーとなり、カスタムチップやその他の電子デバイスの製造に費用対効果の高いソリューションを提供します。