中古 KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 #9404255 を販売中

KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2
ID: 9404255
Vertical diffusion furnace.
KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2は、高度な材料製造に使用される高度な拡散炉とアクセサリーです。本装置は、物理蒸着(PVD)技術であるプラズマ強化化学蒸着(PECVD)を用いて、真空中の表面に材料を堆積させます。このシステムは、13。56MHzのR。F。ジェネレータを使用して、真空中の表面に材料を堆積させるための高品質のプラズマ強化化学蒸着を作成します。このユニットには、クォーツリアクター室、サンプルを予熱するハロゲンランプ、ヘリウムリーク検出器、真空チャンバー、温度、圧力、およびRF電力を調節するコントローラもあります。Quixace Ultimate ALD SiO2マシンは、アルミニウム、チタン、シリコン、およびさまざまなポリマー(PTFE、 PP、 PMMAなど)を含むさまざまな材料を堆積することができます。このツールはまた、チャンバの使用率を最大化し、最適化されたプロセスシーケンスを提供する独自のデュアルプロセスチャンバー設計を備えています。これにより、堆積サイクル時間が短縮され、ターンアラウンドタイムが短縮されます。このアセットは、誘電体、導体、半導体材料をすべて1つのプロセスで使用して堆積物を作成するのに理想的です。表面に作成された堆積物は、均一な保護層を形成し、酸化、傷、摩耗に耐性があります。これは、電子機器、太陽電池、医療インプラント、保護コーティングなど、さまざまな用途に使用できます。KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2は、マイクロおよびナノテクノロジーの製造において信頼性と費用対効果の高い方法です。このモデルは、プロセスのニーズに合わせて柔軟で効率的な機器を探しているユーザーに最適です。システムは信頼性が高く、アクセサリーに簡単にアクセスでき、ユーザーフレンドリーで操作が簡単です。また、信頼性の高いカスタマーサービスに裏打ちされており、プロセス時間を最小限に抑えて高品質な結果を生み出すことができます。
まだレビューはありません