中古 KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 #9208965 を販売中
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KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2は、特に二酸化ケイ素(SiO2)薄膜の原子層蒸着(ALD)用に設計されたアクセサリーを備えた先進的な拡散炉です。この装置は、高品質の誘電体薄膜をさまざまな基板上に堆積させるための信頼性と再現性の高いプロセスを提供します。この拡散炉には、温度設定の範囲を持つ高温チャンバーと、材料を蒸発させるための回転アーム、および流量と圧力を正確に制御できるガス供給システムが内蔵されています。このアクセサリーキットは、アルミナ反応チャンバー、ウェーハホルダー、クォーツるつぼ、温度センサーなど、SiO2の効率的なALDに必要なすべてのコンポーネントを提供します。さらに、Ultimate ALD SiO2ユニットには、詳細なプロセスパラメータとレシピ、および手動操作のサポートが含まれており、ALDプロセスを完全に制御できます。クォーツるつぼは、ユーザーが優れた均質性を持つフィルムを堆積させることができ、ウェーハからウェーハまで一貫した結果を提供します。ウェーハホルダーと構造化されたバスケットは、蒸発プロセス中の配達の均一性を提供し、基板の表面全体に均一な材料の堆積を保証します。アルミナ反応チャンバーは、ALDプロセスのための望ましいガス混合物への自動露出を保証し、高品質のシリカベースの薄膜を作成します。圧力、温度、ガス混合物はすべて機械の敏感な制御によって調節することができ、フィルム特性およびスループットの最適化を可能にします。Quixace Ultimate ALD SiO2ツールは、ラボおよび生産規模のアプリケーションの両方のニーズを満たしています。最も難しい産業用途でも、Ultimate ALD SiO2アセットは高い再現性、優れたプロセス制御、成膜プロセスの完全な制御を提供します。包括的な安全機能を備えたUltimate ALD SiO2モデルは、誘電体薄膜の効率的で費用対効果の高い蒸着方法をお探しのお客様に最適です。
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