中古 KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 #9203703 を販売中

KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2は、最新のデバイス製造の厳しい要件を満たすように設計された高度な拡散炉です。それは優秀な温度性能、優秀な均等性および優秀な部屋の幾何学を、すべて種類の最も小さい部屋で提供します。究極のALD SiO2は、0。01°Cの温度精度で、優れた熱均一性を提供します。特殊なプロセス制御装置により、CVD、 ALD、および高度な酸化からなるさまざまな操作に対応できます。また、ユニークなチャンバー形状により、広い領域で優れた膜均一性を実現しています。革新的な回転カソードにより、均等に分散された電極が可能になり、迅速かつ一貫したフィルム成膜が可能になります。自動クリーニングシステムと接地装置はさらに信頼性を高めます。Quixace Ultimate ALD SiO2は、最新の製造プロセスの最も厳しい要件に最適です。このデバイスには、自動制御ユニット、回転カソード、優れた均一性、優れた熱制御など、多くの高度な機能が搭載されています。高い一貫性と低熱勾配を提供する独自の設計です。さらに、チャンバージオメトリは、広い領域にわたって優れた均一なフィルムを提供するように設計されています。さらに、Ultimate ALD SiO2には、効果的なクリーンインプレイスマシンとアーシングデバイスが付属しています。KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2は、高度なデバイス製造プロセスに最適なツールです。それは優秀な温度調整および均等性を提供し、CVDおよびALDプロセスのために最も適しています。また、ユニークなチャンバー形状により、広い領域で優れた膜均一性を実現しています。回転カソードは均等に分散した電極を可能にし、CLEAN-IN-PLACEツールは最大の衛生を保証します。この高度なアセットにより、デバイスの製造において信頼性とトラブルのないプロセスが保証されます。