中古 KOKUSAI Quixace II NITRIDE #9182061 を販売中

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ID: 9182061
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2007
Vertical LPCVD furnace, 12" Cartridge heater Heater control Over-temperature Thyristor unit for control I/O Shutter stage: AGV / PGV / OHT Stage FOUP Loader Rotation FOUP storage FOUP Opener Wafer detection Wafer transfer Variable wafer pitch converter Boat elevator Boat changer Furnace port shutter Boat rotation AWTC Port Flange-upper Flange-lower Quartz boat Quartz outer tube Quartz inner tube Quartz adiabatic plate Quartz boat fixing ring Quartz nozzle 1: D4CN55589 Quartz nozzle 2: D4KN31319#D Quartz boat fixing ring Quartz boat Quartz outer tube Quartz inner tube Quartz adiabatic plate Quartz nozzle 1: D4CN55589 Quartz nozzle 2: D4KN31319#D Quartz nozzle 3: D5CP15682 Quartz nozzle 4: D5CP15683 Quartz nozzle 5: D5CP15684 Quartz boat fixing ring SiC Boat Quartz outer tube SiC inner tube SiC adiabatic plate Quartz nozzle 1 Quartz nozzle 2 Quartz boat fixing ring Gas unit (IGS): D4VX38302 Tape heater: Gas pipe 1: D4EX19130 Gas pipe 2: D4EX19131 Diffuser: D4CX33281 Mass flow controller: FC-PA785T-BW-TC Series Filter: WGSLS Series Regulator: PGM Series Pressure gauge: ZT16-S01 Hand valve: MMGD5-11D-W Series Check valve 1: MCGP5-F1X1 Series Needle valve: MMGD5-11D-W Series Air valve: MAGD5 Series Connection & fittings: VCR / UPG / SWG MFC 1: NH3, 0.5SLM MFC 2: N2, 30SLM MFC 3: SiH2Cl2, 0.2SLM MFC 4: SiH2Cl2, 0.2SLM MFC 5: SiH2Cl2, 0.2SLM MFC 6: SiH2Cl2, 0.2SLM MFC 7: NH3, 2SLM MFC 8: NH3, 0.5SLM MFC 9: NH3, 0.3SLM MFC 10: NH3, 0.3SLM MFC 11: NH3, 0.3SLM MFC 12: NF3, 1SLM Vacuum sensor (VG11): 1000 Torr Vacuum sensor (VG12) Vacuum sensor (VG13): 2 Torr Vacuum sensor monitor Main valve: VEC-SHA8-X0327 Exhaust piping: D4CX38671 Exhaust dilution line: D4CX38671 Reactor tube press leak line: D4CX38671 Jacket heater: 150° C Exhaust pipe: 150° C Process effluent trap: MKS Baratron vacuum calibration port Inlet flange heater: ESH-12964-01 (2) Injector port heaters: ESH-12965-01 ESH-12966-01 Seal cap heater: ESH-12450-02 O2 Monitor / Detector FOUP Opener system N2 Purge system Load area MFC Loading area Furnace port Radiator Filters: Carbon / Chemical 1 filters Carbon / Chemical 2 filters Carbon / Chemical 3 filters Main operation controller: SW Rev 01.05.05 EDA Controller: SW Rev 01.00.02 DDC Temperature controller: SW Rev 06.00.00 Process module controller: SW Rev 01.05.05 Wafer handling controller: SW Rev 02.04.06 (2) FOUP I/O FOUP RFID Reader Wafer mapping sensor: F3M-S1225 FOUP Sensor: E3T-ST11 SECS/GEM Communication: SW Rev 06.01.02 Includes: Hazardous gases Manual Shut off valve Lock out / Tag out Electrical: Lock out / Tag out Robot: Lock out / Tag out.
KOKUSAI Quixace II NITRIDEは窒化物処理のために特別に設計された拡散炉です。これは、窒化物の層の堆積のための効率的で信頼性の高いツールであります、だけでなく、様々な金属や他の材料、基板上。高度な設計とモジュール構造により、生産プロセスの柔軟性が向上します。炉の高度の窒素の注入装置はすべての窒化物プロセスが必要な管理された環境内で遂行されることを保障します。このシステムは調節可能であり、各基板の特定のプロセス要件に合わせて調整することができ、優れた窒化物の品質と信頼性をもたらします。このユニットはまた、拡散温度と時間を正確に制御し、反復可能で一貫した結果を得ることができます。炉の高性能は、幅広い用途のアクセサリーによってさらに補完されています。これらの中には、高速プロセス起動のための迅速なポンプダウンマシン、高温アニーリングのためのタイトリングボックスチャンバー、および迅速な冷却を容易にするための蓋ボックスオーブンがあります。付属の自動ガス制御ツールは、窒化物プロセス用に複数のガスを前処理する機能をユーザーに提供します。Quixace II NITRIDEは、安全な環境を維持するためのさまざまな安全機能も備えています。これらには、マルチポイントアラーム資産、インターロック診断モデル、およびプロセス監視装置が含まれます。すべてのこれらのシステムは、ユーザーが蒸着プロセス中に炉の完全な制御を維持できることを保証します。KOKUSAI Quixace II NITRIDE拡散炉は窒化物の処理のための高度で、信頼できる用具および他の材料の範囲です。その窒素注入制御システム、アクセサリーの広い範囲、ユーザーフレンドリーな操作は、この種の最も効率的で信頼性の高い拡散炉の1つに貢献しています。その利用可能な安全機能と組み合わせると、それは産業用途の広い範囲のための完璧なツールです。
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