中古 KOKUSAI DD-853V #293615302 を販売中

KOKUSAI DD-853Vは、シリコンやシリコン系材料をはじめとする各種基板への素子の挿入・除去に使用される高度な拡散炉です。市場をリードする拡散炉の一つとして、汎用性の高いKOKUSAI DD 853Vは、多くの種類のシングルウェーハ処理と高度な温度プログラム可能なアプリケーションを提供しています。DD-853Vには、最大550°Cの温度での着床を可能にするDirect N2 Implantationガスボックスモジュールと、プロセス間の冷却の最大90秒を装備しています。また、シンプルでダイレクトコマンドのためのユーザーフレンドリーなタッチスクリーンインターフェイス、イオンシャッター、高温絶縁板、複数のボートモニター、標準的なSIバルブなどのオプションの「アドオン」アクセサリーも備えています。その他の機能には、高いスループット能力、高温耐久性、柔軟な構成、および低化学活動炉壁があります。また、高速で再現可能なデバイスレシピと簡単なメンテナンスを備えた洗練されたオートメーションシステムを提供します。統合された内部ガス安全システムは、正確なガス混合物と制御が可能です。コンパクトな設計により、さまざまな処理環境でデバイスを柔軟に見つけることができ、シングルウェーハとマルチウェーハプロセスプラットフォームの両方に適しています。DD 853Vは、KOKUSAIの全製品と同様に、最も費用対効果の高い生産性を提供するように設計されています。KOKUSAI DD-853Vは、複数のレシピをカスケード化して多様な素材や基板を処理できるようにすることで、産業、自動車、消費者向けの製品開発アプリケーションに最適です。マルチスタック層や垂直集積回路などの用途や、一部の医療用途にも最適です。拡散プロセスのトータル制御のために、KOKUSAI DD 853Vには高度なプロセス制御システムを装備することができます。これには、自動校正、高速サーマルサイクルバックアップ、自動プロセス動作監視、データ収集などの機能、およびインターネットを介した遠隔監視および操作機能が含まれます。KOKSUAIは、2年間のメーカー限定保証、および幅広い追加サービス、製品変更、メンテナンス契約、高品質のスペアパーツおよびテクニカルサポートとDD-853Vしています。DD 853VのR&Dバージョンもあり、ユーザーは指示された実験を容易に実行することができます。KOKUSAI DD-853Vは、パワフルな性能と高精度な結果により、予算を意識した拡散処理要件に対応する信頼性の高い長期的なソリューションです。KOKUSAI DD 853Vは、革新的な設計、構造化されたモジュラー構成、高度な機能を備えており、効率的で高スループット拡散炉を求める企業にとって理想的な選択肢です。