中古 KOKUSAI DD-853 #9131345 を販売中
この商品は既に販売済みのようです。下記の同じようなプロダクトを点検するか、または私達に連絡すれば私達のベテランのチームはあなたのためのそれを見つけます。
タップしてズーム

販売された
ID: 9131345
ヴィンテージ: 2001
Diffusion furnace
6/2001
Bridgework
Element
1200 Heater
4 Zone
Pyro
Cx3202b controller
5 finger high speed robot
Cx3002 controller
2001 vintage.
KOKUSAI DD-853は、シリコンおよび化合物半導体の製造および開発の要件を満たすように特別に設計された高性能拡散炉です。これは、低温駆動および低温ポリシリコン蒸着のためのシーケンシャルアニールプロセス(SAP)を実行することができます。炉は調節可能な位置の6076までサンプル棒と荷を積まれるように設計されている高温炉の部屋から、成っています。温度は25°C (T-Slope制御)から1000°Cまで調整可能で、問題なく長期間維持できます。また、低密度のカーボン制御冷却装置を備えており、拡散プロセス中のサンプルの正確な温度制御と均一な冷却を保証します。DD-853には、酸素や窒素大気などの自動制御システムや、アルゴン、水素、メタンなどの他のガスがあります。精密なサンプル拡散のための3段階の圧力/温度自動制御システムが装備されています。さらに、ユニットには2つの冷却ポートとロックポートがあり、適切なサンプルのロードとアンロードを保証します。KOKUSAI DD-853に付属しているアクセサリーには、拡散棒にサンプルを積み込むためのドライバ、プロセスを正確に監視するためのタイマー、炉の消耗を早めるための掃除機/清浄機が含まれています。DD-853にまた異常な操作の場合にはユーザーを保護する作り付けの安全警報機械があります。モニターやアラームボタンなど、さまざまなセンサーやインジケータが搭載されています。内部システムは、最適なプロセスを確保するために温度、圧力、ガス組成を監視するように設計されています。KOKUSAI DD-853は、市場で最も先進的な拡散炉の1つであり、あらゆる生産および研究ニーズに最適なソリューションです。その長期的な安定性と安全性の特徴、パッケージに付属する様々なアクセサリーと同様に、DD-853は半導体の生産と開発のための理想的な選択肢です。
まだレビューはありません