中古 KOKUSAI CX-5000 #293763032 を販売中
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ID: 293763032
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2015
Diffusion furnace, 12"
Part number: DJ-1236VN -DF
Process: ALD
Power supply: 120 V, Single phase / 480 V, 3 Phase
2015 vintage.
KOKUSAI CX-5000は半導体産業の大量の製造工程のために設計されている高度の拡散炉です。この最先端の装置は、熱処理条件を正確に制御し、均一で信頼性の高い結果を得ることができるため、大規模な生産設備に非常に適しています。CX-5000拡散炉には、複数の加熱ゾーンとガス噴射ポートが装備されており、拡散プロセス中の正確な温度制御とガス流量管理を可能にします。これにより、炉は酸化、拡散、アニーリングプロセスなど、幅広い熱処理要件に対応できます。KOKUSAI CX-5000の重要な特徴の1つは、堅牢な構造と高度な熱管理装置です。炉の部屋は操作の間に優秀な熱安定性および均等性を保障する高純度の水晶材料から成っています。温度制御システムは複数の熱電対とPIDコントローラで構成されており、最適な性能を得るためにプロセスパラメータのリアルタイム監視と調整が可能です。高度な加熱・温度制御機能に加え、CX-5000拡散炉には洗練されたガス供給ユニットが装備されています。この機械には、ガス流量と濃度を正確に調節するためのマスフローコントローラと、プロセスガスの純度を確保するためのガス浄化器が含まれています。これらのコンポーネントを統合することで、高精度で再現性の高い拡散プロセスが可能になり、高品質の半導体デバイスが得られます。さらに、KOKUSAI CX-5000は操作性とメンテナンス性に優れた使いやすい機能を備えています。この炉には直感的なグラフィカルユーザーインターフェイス(GUI)が装備されており、オペレータはプロセスパラメータを簡単にプログラムして監視することができます。自動化されたシーケンスやレシピ管理機能も利用でき、手作業による介入を最小限に抑えて複雑な処理ルーチンを効率的に実行できます。CX-5000拡散炉は、小型基板から大型300mmウェハまで幅広いウエハサイズに対応しており、様々な半導体製造用途に対応した汎用性の高いソリューションとなっています。炉は、単一のウエハ処理だけでなく、バッチ処理モードに対応することができ、異なる生産要件を満たすための柔軟性を提供します。国際化CX-5000拡散炉は、高容量半導体製造において卓越した性能と信頼性を提供する最先端の設備です。高度な機能、精密な制御機能、およびユーザーフレンドリーな設計により、生産環境で一貫した高品質な処理結果を達成しようとする半導体企業にとって貴重な資産となります。
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