中古 KOKUSAI CX-5000 #293763006 を販売中
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ID: 293763006
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2010
Diffusion furnace, 12"
Part number: DJ-1206VN -DF
Process: TiN
Main controller: KDSC
Power supply: 120 V, 1 Phase / 480 V, 3 Phase
2010 vintage.
KOKUSAI CX-5000は、KOKUSAI Semiconductor Equipment Corporationが開発した最先端の拡散炉とその付属品です。この革新的なプラットフォームは、半導体製造に必要な正確かつ効率的な拡散プロセスのための高度な機能を提供します。CX-5000は、高水準の性能、信頼性、柔軟性を提供することにより、半導体業界の厳しいニーズを満たすように設計されています。KOKUSAIの中核となるCX-5000装置は、シリコンウェーハの熱処理の鍵となる拡散炉そのものです。この炉は、最適な拡散結果を得るために、精密な温度制御、均一な熱配分、および制御されたガスの流れを提供するように設計されています。炉の部屋は高温および腐食性ガスに抗することができる良質材料から、長期耐久性および信頼性を保障します成っています。CX-5000炉は、急速な加熱と冷却サイクルを可能にする高度な発熱体を備えており、ウェーハの効率的な処理を可能にします。システムには、さまざまなプロセス要件に合わせてカスタマイズされた熱プロファイルを作成するために独立して制御することができる複数の加熱ゾーンが装備されています。この制御レベルにより、拡散プロセスパラメータの精密なチューニングが可能になり、半導体装置で必要なドーパントプロファイルとジャンクション深さが得られます。炉室は、研究開発に使用される小径ウェハから、生産環境で一般的に使用される大型ウェハまで、さまざまなウェハサイズに対応できるように設計されています。この柔軟性により、半導体メーカーは同じプラットフォームでさまざまな種類のウェーハを処理することができ、複数の加工ツールの必要性を減らし、生産プロセスを合理化することができます。ファーナスチャンバーに加えて、KOKUSAI CX-5000ユニットには、その機能性と機能性を高めるさまざまなアクセサリーや周辺機器が含まれています。これらのアクセサリーには、ガス供給システム、真空ポンプ、ウェーハハンドリングロボット、プロセス監視ツールなどがあります。ガスデリバリーマシンは、炉室へのドーパントガスの正確かつ制御された配達を保証し、真空ポンプは拡散プロセスに必要な真空レベルを維持します。ウェーハハンドリングロボットは、ウェーハの炉内への積み降ろしを自動化し、汚染のリスクを低減し、プロセス全体の効率を向上させます。ロボットには高度なセンサーと制御システムが搭載されており、処理中のウェーハの正確な位置決めとアライメントを保証します。温度センサ、ガス流量計、圧力計などのプロセス監視ツールは、プロセスパラメータに関するリアルタイムのデータを提供し、拡散プロセスの継続的な監視と調整を可能にします。このデータ駆動型アプローチにより、一貫した再現性のある結果が保証され、製品の歩留まりが向上し、品質管理が向上します。全体として、CX-5000拡散炉とその付属品は、半導体メーカーの熱処理ニーズに信頼性の高い高性能ソリューションを提供します。このツールの高度な機能、正確な制御機能、および柔軟性により、半導体製造プロセスにおける最適な拡散結果を達成するための貴重なツールとなります。KOKUSAI CX-5000により、半導体メーカーはプロセス効率の向上、運用コストの削減、製品品質の向上を期待でき、最終的には急速に進化する半導体産業の競争力につながります。
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