中古 KOKUSAI CX-5000 #293762985 を販売中
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ID: 293762985
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2007
Diffusion furnace, 12"
Part number: DJ-1206VN -DF
Process: SI3N4
Main controller: KDSC
Power supply: 120 V, 1 Phase / 480 V, 3 Phase
2007 vintage.
KOKUSAI CX-5000は、集積回路や薄膜デバイスを効率的に処理するために設計された拡散炉および付属機器です。このシステムは、高温、高速加熱および冷却速度、および高品質で信頼性の高いデバイスの製造に最適な多くの機能を提供します。CX-5000拡散炉は、0〜1,400°Cの広い温度範囲で均一な温度制御を提供するように設計されています。トップローディングローダーは、簡単な基板の挿入と取り外しを可能にします。ローダーは最大基板サイズが4インチ、サーマルサイクリング時間が1〜5000秒です。ヒーターの温度セットポイントの正確さは± 2°Cです。KOKUSAI CX-5000拡散炉には、温度コントローラと高効率PID制御アルゴリズムが搭載されています。このユニットは、アニールおよび拡散プロセス中の正確な温度管理を維持するのに役立ちます。機械はまた部品への損傷を防ぐ自動シャットダウンおよび過熱保護を提供します。 拡散炉は、 または の単相電源接続によって駆動 れます。この信頼性の高い電源接続により、長時間にわたる連続運転が可能です。電力漏れは2ミリアンペア未満であるため、同じ電源ラインに接続された複数のシステムを操作することは非常に安全です。KOKUSAI CX-5000の電力効率評価は70%を超えています。CX-5000拡散炉ツールには、自動負荷/アンロード機構、ホットウォールエンクロージャ、温度の急激な変化による熱衝撃を低減するコンフォーマル冷却機能など、多くのアクセサリーも含まれています。このアセットには、プロセスチャンバーへの正確なガス供給を可能にする統合ガス分布モデルも搭載されています。KOKUSAI CX-5000拡散炉は、耐久性のある材料で構築されており、信頼性の高い性能と多用途を確保しています。この装置は高温アニールおよび拡散用途向けに設計されており、半導体デバイス製造に最適です。さらに、CX-5000拡散炉システムは、薄膜デバイスのアニールや新製品のテストサンプルなどの研究開発にも使用できます。
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