中古 KOKUSAI CX-3000 #293762990 を販売中
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ID: 293762990
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2005
Diffusion furnace, 12"
P/N: DD-1223V
Process: BIO
Main controller: CX3010 / CX3010B
Power supply: 208V, 1 Phase / 440 V, 3 Phase
2005 vintage.
KOKUSAI CX3000は、シリコンウェーハの精密かつ効率的な熱処理のための半導体業界の要求に応えるように設計された、高度で汎用性の高い拡散炉です。この最先端の装置は、大量の半導体製造アプリケーションに最適な幅広い機能と機能を提供します。KOKUSAI CX-3000の中心には、多数のウェーハを同時に処理できる堅牢で信頼性の高い拡散チャンバーがあります。このチャンバーは、高温熱処理の過酷な条件に耐えられる高品質の材料から構成されています。これにより、ウェーハが均一で制御された熱処理を受け、最適な拡散性能を発揮します。CX3000の重要な特徴の1つは、チャンバー全体に戦略的に配置された複数の発熱体で構成される高度な暖房システムです。これらの加熱素子は個別に制御することができ、ウェーハ表面全体にわたって正確で均一な加熱プロファイルを提供します。これにより、ランプアップとランプダウン速度、浸漬時間、ピーク温度など、幅広い熱処理パラメータに対応できます。高度な加熱機に加えて、CX-3000はまた、拡散チャンバー内の大気を正確に制御するように設計された洗練されたガス供給ツールを備えています。この資産は、ドーパントガスや不活性ガスなどの幅広いプロセスガスを正確に制御した流量で供給することができます。これにより、ウェーハは拡散プロセスに必要な正確なガス混合物にさらされることが保証されます。また、加工中のウェーハの温度を継続的に監視する総合的な温度監視・制御モデルを搭載したKOKUSAI CX3000。この装置は、高精度の熱電対とパイロメータを使用して、ウェーハの温度プロファイルをリアルタイムでフィードバックし、オンザフライで調整して、一貫した再現性のある結果を保証します。KOKUSAI CX-3000の性能と汎用性をさらに高めるために、さまざまなアクセサリーやオプションを用意しています。自動化されたウェーハローダーやアンローダーなどのウェーハハンドリングシステムや、熱処理レシピのカスタマイズを可能にする高度なプロセス制御ソフトウェアなどがあります。全体として、CX3000は半導体メーカーに比類のない性能、信頼性、柔軟性を提供する最先端の拡散炉です。このシステムは、大量の生産や研究開発に使用されるかどうかにかかわらず、幅広い熱処理要件に正確かつ一貫した結果を提供するように設計されています。その高度な機能と機能により、最高レベルのウェーハ品質とプロセス効率を実現するために、あらゆる半導体製造施設に不可欠なツールとなります。
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