中古 KOKUSAI CX-3000 #293762967 を販売中

KOKUSAI CX-3000
製造業者
KOKUSAI
モデル
CX-3000
ID: 293762967
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2004
Diffusion furnace, 12" P/N: DD-1223VN Process: BIO Main controller: CX3010 / CX3010B Power supply: 208V, 1 Phase / 440 V, 3 Phase 2004 vintage.
KOKUSAI CX3000は半導体業界の厳しいニーズに応えるために設計された高度な拡散炉です。この最先端の機器は、拡散プロセスを正確に制御し、高品質の結果と効率的な生産を保証します。KOKUSAI CX-3000の重要な特徴の1つは、ウェーハの精密かつ均一な加熱を可能にする高度な加熱装置です。この炉には、最大1200°Cの温度に達することができる高性能の発熱体が装備されており、幅広い材料に最適な拡散条件を保証します。その印象的な暖房機能に加えて、CX3000はまた、優れたプロセス制御機能を提供しています。この炉には、温度、ガスの流れ、圧力などのパラメータを正確に調整できる高度な制御システムが装備されています。このレベルの制御により、一貫した信頼性の高い拡散結果が保証され、大量生産環境にCX-3000理想的な選択肢となります。KOKUSAI CX3000も汎用性が高く、幅広いプロセスガスや材料をサポートします。この炉は、リン、ホウ素、ヒ素などの一般的なドーパントと互換性があり、さまざまな半導体材料の拡散を可能にします。また、様々なサイズのウェーハに対応できるため、幅広い生産要件に適しています。KOKUSAI CX-3000のもう一つの特徴は、先進的なガス供給ユニットです。この炉には、拡散プロセス中に正確で安定したガス供給を可能にする精密ガス流量コントローラが装備されています。これにより、プロセスガスがウェーハ全体に均等に分散され、均一な拡散プロファイルと高品質の結果が得られます。炉自体に加えて、CX3000はその性能と機能性を高めるためのアクセサリーやオプションの範囲が付属しています。これらのアクセサリには、プロセス監視および制御システム、ならびにデータ分析およびプロセス最適化のためのソフトウェアツールが含まれます。この包括的な機能により、CX-3000は半導体製造のための強力で汎用性の高いツールとなります。KOKUSAI CX3000は、高精度・制御性・汎用性を兼ね備えた最先端の拡散炉です。高度な加熱機、精密なプロセス制御機能、包括的なアクセサリを備えたこの炉は、半導体産業の最も要求の厳しい要件を満たすことができます。KOKUSAI CX-3000は、研究開発でも大量生産でも、半導体拡散プロセスにおいても信頼性が高く効率的な選択肢です。
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