中古 HITACHI / KOKUSAI DD-833V #9161747 を販売中

HITACHI/KOKUSAI DD-833Vは、幅広い半導体材料の熱処理を制御するために設計された高性能拡散炉です。この強力で効率的な炉は、最高の熱処理効率と柔軟性を提供する独自の3ゾーン排気システムを備えています。このシステムは、さまざまな温度範囲と化学雰囲気で動作するように設計されており、高温ドーピングやアニーリングプロセス、多層金属構造の製造などの用途に最適です。熱帯の柔軟性をさらに向上させることで、処理温度の制御が強化され、プロセスの再現性と再現性が向上します。HITACHI DD-833Vは、低熱反応から1150°Cまでの高温範囲を特長としています。3つの独立して制御された加熱ゾーンを可能にする独自の分割要素赤外線（IR）放射加熱システムを使用することにより、炉全体で均一な温度が維持されます。各ゾーンには、+/-3°Cの精度で各ゾーンの温度を正確に制御する独立した赤外線放射要素コントローラが組み込まれています。KOKUSAI DD 833Vは、熱プロセスから発生する発煙や煙を効率的に排出するために設計された冷却ファンを内蔵しています。この冷却ファンは、ユーザーにとって安全な作業環境を維持するのにも役立ちます。炉に供給されるガスの品質は、自動的に空気流量を制御/調整するための炉のメカニズムによってさらに保証されます。DD 833Vは、幅広いアクセサリーと、熱処理によって生成された酸素または副産物を除去するスクラバーユニット、オプションのスクラバーと炉を取り付けるための様々なガスライン、ウェーハを過剰処理または焼却から保護するためのグラファイトアルミナおよびセラミック材料などのオプション機能を備えています。KOKUSAI DD-833Vは、ユーザーに多彩なプロセス能力、熱処理性能の向上、最高レベルのオペレータの安全性を提供するように設計された強力な拡散炉です。堅牢な構造と高温範囲を備えたHITACHI DD 833Vは、半導体生産の要求に応える理想的なツールです。