中古 HITACHI / KOKUSAI DD-803V #293633554 を販売中
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ID: 293633554
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1998
Vertical furnace, 8"
Atmospheric controller
Clean unit controller
CX2000 Controller
Utility cabinet
CQ1501 Temperature controller
(4) Zones
D4EX02728 Heater
Process temperature: 700°C-1000°C
Flatzone length: 952.50 mm
Process tube material: Quartz
Wafer boat material: Quartz
Tube seal configuration: N2 Flow
R-Type thermocouple
Exhaust controller
SECM / GEM Communication: Serial
Temperature control:
P: 0.1~200%
I: 0.01-100.00 min
D: 0.00-10.00 min
Load station:
WIP Carrier capacity: 16
Wafer spacing: 5.20 ±0.05 mm
Load size: 150-Slots
Boat rotation
Process gas control system:
External torch
H2 Burn off
Bubbler
Process gas (Atmosperic):
MFC Model: SEC-Z500, SEC-4500, SEC-4400 / Analog
Process gas: N2, H2, Ar, O2, NO
SCHUMACHER ATCS 15 Bubbler system
Other gases: UN2 (Air/N2)
Input power supply:
Heater: 208VAC, 50KVA, Single phase
Controller: 100VAC, 4KVA, Single phase
Clean Unit: 100VAC, 1.5KVA, Single phase
Start-up PSU: 24VDC
Handler missing
1998 vintage.
HITACHI/KOKUSAI DD-803V拡散炉とアクセサリーは、アニール、焼結、拡散用途向けの包括的なソリューションを提供します。この拡散炉は、完全に自動化された正確な加熱冷却プラットフォーム（HCP）と信頼性の高いアクション性能で作られており、さまざまな材料やプロセスに適しています。HITACHI DD-803Vは、幅広い用途に対応した汎用性の高い機械です。これは、炉室、冷却室、および2つの補助室を含む4つのチャンバーを備えています。炉の部屋はデジタル温度調節器、強制空気循環および必要な冷却室のような多数の特徴を、誇っています。冷却チャンバーは、材料やプロセスの範囲のための効果的な冷却方法を可能にします。それはアルゴンのような不活性ガスの助けの有無にかかわらず効率的に、働く。KOKUSAI DD-803Vは、過酷な作業環境でも耐久性に優れた強固なメタルフレームを中心に構築されています。それは性能を改善し、維持およびエネルギーコストを最小にする強力な陶磁器の絶縁材が装備されています。この炉は、ユーザーフレンドリーなタッチベースのインターフェースによって制御され、簡単なセットアップと操作が可能です。また、安全機構が内蔵されているため、幅広い環境での使用にも安心して使用できます。DD-803V拡散炉とアクセサリーは、半導体や太陽電池の製造、研究開発、薄膜アプリケーション、医療機器製造など、多くの材料とプロセスのニーズと要件を満たすように設計されています。MPS （Multi-Zone Processing System）は、プロセス温度と周囲条件を高度に制御し、正確で一貫した結果を保証します。炉の部屋の均一性は調節可能な地帯制御および任意自動再生機械が付いている高性能の暖房の制御単位によって維持されます。HITACHI/KOKUSAI DD-803V拡散炉とアクセサリーには、炉のほかにも便利なアクセサリーが多数あります。例えば、配電ユニット、ロードセル・プラットフォーム、固定システム、不活性ガス・エンクロージャ、高度な制御と監視のためのプログラマブル・ロジック・コントローラなどです。HITACHI DD-803Vは、精密な温度制御、卓越した均一性と信頼性、および包括的な安全機能により、精密なプロセスと敏感な部品に最適です。
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