中古 HITACHI / KOKUSAI DD-802V #9281673 を販売中

HITACHI/KOKUSAI DD-802Vは半導体産業で使用するために設計された拡散炉およびアクセサリーです。このタイプの拡散炉は、シリコンウェーハ製造用のドーパントの製造などの用途に特に使用されます。HITACHI DD-802Vの特徴は、最高温度1250°Cのトップローディングヒーターを採用し、温度の均一性と再現性を実現しています。カバーガスとして窒素パージガスを使用することで、炉内の酸素濃度を下げることで基材の酸化を防ぐことができます。制御ユニットにはLCDディスプレイが装備されており、オペレータはコンベアベルトの温度と速度を調整することができます。この機能は、ドーパントの正確な制御と正確な生産を容易にします。KOKUSAI DD-802Vは、業界の要件を満たし、運用の安全性を確保するための品質フレームワークソリューションで設計されています。PID制御の発熱体は、温度の正確なチューニングを可能にし、Ramp-to-set機能により、炉が熱衝撃を受けないようにします。さらに、炉の空気取り入れ口にはフィルターが内蔵されており、環境中の塵の濃度を低減し、より環境に優しいものにしています。また、半導体ウェーハの熱応力と汚染を最小限に抑えるために、アンプレス負荷用の石英アンプルを備えています。DD-802Vにまたドーパントの沈着率そして均等性を減らすのを助ける作り付けの熱い壁の特徴があります。これにより、デバイス全体のパフォーマンスと効率を向上させることができます。排気システムは、空気排気中に存在する有毒な化学物質を除去するのに役立ちます。HITACHI/KOKUSAI DD-802Vは、汚染の可能性のあるリスクを排除することにより、安全警報をサポートし安全な運転を保証します。HITACHI DD-802Vは、半導体業界の要求を満たす汎用性の高いツールです。この炉の特徴は、拡散プロセスのニーズに最適です。この製品は、ドーパント沈着を必要とする高度な製造プロセスのための効率的で費用対効果の高いソリューションです。