中古 HITACHI / KOKUSAI DD-802 #9350649 を販売中

HITACHI/KOKUSAI DD-802は、各種材料の堆積、酸化、窒化、アニーリングのための工業用および実験室の設定で一般的に使用される強力で信頼性の高い拡散炉およびアクセサリーです。高温高精度炉と最先端の誘導加熱技術を組み合わせた試作装置で、サファイア、Si、 Geなどの高付加価値基板の効率的な加工が可能です。HITACHI DD-802は、2000°Cまでの温度を実現することができ、特に加熱工程中の高い均一性と安定性を維持するように設計されています。このシステムはまた、さまざまな要件に合わせて簡単に操作できるカスタマイズ可能な基板サイズの広い範囲を備えています。温度制御、加熱の均一性、構造の柔軟性を兼ね備えたKOKUSAI DD-802、有機・無機材料の拡散に最適です。この炉は、4cmの厚さを組み合わせた先進的なセラミック材料から部分的に構築されており、熱損失と汚染に対する優れた絶縁性を提供します。さらに、高真空ユニットは、酸素の低い部分圧力を維持するのに役立ち、O2検出器は、大気の部分圧力が一貫しており、所定のパラメータ内であることを保証します。この拡散炉はまた、最先端のPID（比例積分微分）サイクリング制御オートメーションにより、高精度と機能性を提供します。この機械は暖房段階の間に絶えず温度を調節し、オペレータがローカルおよびリモート・ディスプレイからプロセスを監視することを可能にします。当社は、拡散炉の信頼性と性能を確保するため、数多くのメンテナンス・アフターサービスを提供しています。これらのサービスには、テクニカルサポート、予防メンテナンス、迅速な対応修理が含まれます。さらに、特定の地域のお客様には、お客様が自分のツールを最大限に活用し、最高の結果を得ることができるようにするために、幅広い専門トレーニングコースを提供しています。全体として、DD-802は、環境や基板に関係なく、ユーザーに一貫した結果を提供するように設計されたインテリジェントで堅牢な拡散炉です。この資産は、均一性、精度、および高温処理を必要とする工業プロセスに最適です。