中古 HITACHI / KOKUSAI DD-1223VN #9285060 を販売中

HITACHI/KOKUSAI DD-1223VNは、半導体・関連産業における研究・製造のニーズに応えることができる拡散炉です。この拡散炉は、安全でエネルギー効率の高い環境において、多種多様な材料を効率的かつ迅速に処理できるように設計されています。HITACHI DD-1223VN拡散炉の動作温度範囲は680〜1250°Cです。これにより、さまざまな材料やプロセスを使用して拡散プロセスを実行することができます。高温処理能力により、拡散炉の有効工程時間が短縮されます。この炉は、危険なガスや粒子が逃げないように排気ダクトを備えています。また、優れた断熱性により炉の熱効率が向上し、消費電力を最小限に抑えることができます。KOKUSAI DD-1223VN拡散炉には、プロセスを容易にするためのさまざまなアクセサリーがあります。炉の内外に材料を輸送するためのコンベヤーカートを備えています。内蔵のターボチューブシーリング技術は、エネルギー消費を低減し、より速いウェーハ処理を促進します。精密な反応制御機能により、ユーザーは、温度の上昇率、温度の低下率、および各チャンバーの内部圧力などの反応条件を制御することができます。各種ガスに対応し、窒素、成形ガスを組み合わせて供給することも可能で、加工性のさらなる向上を図っています。強力なタッチスクリーンコントロールパネルは、炉を制御するための使いやすいインターフェイスを提供します。このパネルは、正確で信頼性の高い結果を得るために正確にメンテナンスする必要のある温度、圧力、その他のプロセス条件などのプロセスパラメータを入力することができます。コントロールパネルはまた、データを監視して記録し、プロセスの結果を簡単に追跡することができます。安全性を高めるために、予防保全のための高度なEC（電子チェック）機能を提供します。これにより、潜在的に危険なガス漏れやその他の機械的問題が発生する前に防止されます。DD-1223VN拡散炉は強力な機械であり、半導体研究および製造プロセスに高いレベルの精度と安全性をもたらします。優れた温度制御、排気ダクトの安全機能、強力なタッチスクリーンコントロールパネル、さまざまなアクセサリーを備えたこの拡散炉は、さまざまな業界のニーズを満たしています。