中古 GE 214 #293818401 を販売中

GE 214は、半導体製造および研究アプリケーションの厳しい要件を満たすように設計された高品質で信頼性が高く、汎用性の高い拡散炉です。214の炉の装置は温度およびガスの流れの精密な制御を提供します、それを理想的な電気特性を作成するためにケイ素のウェーハへのドーパントの拡散にとって理想的です。GE 214システムの主な構成要素は、熱安定性と均一な加熱を確保するために高純度の石英材料から構築された拡散炉そのものです。炉室は複数のシリコンウェーハを同時に収容できるように設計されており、高スループット処理が可能です。炉内の発熱体は、ウェーハ全体に均一な熱分布を提供するために戦略的に配置され、均一な拡散プロファイルを確保します。温度制御は拡散プロセスの重要な側面であり、214炉には高度な温度監視および制御システムが装備されています。このユニットは、± 1°Cの精度で1200°Cまで温度に達することができ、拡散プロセスを正確に制御することができます。また、急速加熱・冷却機能も備えており、効率的な処理時間を実現しています。ガスフロー制御は、リンやホウ素などのドーパントガスを正確に制御するためのマスフローコントローラを統合したGE 214ツールのもう一つの重要な機能です。このアセットは複数のガス入力に対応でき、複雑なドーピングプロファイルを作成できます。ガスデリバリーモデルは、ガス消費量を最小限に抑え、すべてのウェーハで一貫したドーピングレベルを確保するように設計されています。炉自体に加えて、214機器は、その機能性と汎用性を高めるために、アクセサリーやオプション機能の範囲が付属しています。これらのアクセサリには、ウェーハの積み下ろしシステム、ガス精製ユニット、レシピ管理およびプロセス制御用のオートメーションソフトウェアなどがあります。システムには、リアルタイムのパフォーマンストラッキングとトラブルシューティングのための高度な監視および診断ツールを装備することもできます。GE 214ユニットは、安全性と信頼性を念頭に置いて設計されており、包括的な安全インターロック、ガス漏れ検出システム、および緊急停止手順を備えています。この機械は、半導体製造設備の業界標準および規制に完全に準拠しています。全体として、214の拡散炉とその付属品は、正確なドーパント拡散を必要とする半導体加工アプリケーション向けの堅牢で柔軟なソリューションを提供します。高品質な構造、高度な温度およびガス流量制御、包括的な安全機能を備えたGE 214ツールは、一貫した再現性のある結果が不可欠な研究および生産環境にとって信頼できる選択肢です。