中古 FUJIFILM TC 2000 #9399084 を販売中

FUJIFILM TC 2000は半導体製造事業で主に使用される拡散炉および付属品です。その目的は、極めて薄い金属層をシリコンウェーハに確実に堆積させることです。TC 2000は、ステンレス鋼構造の4つのゾーンを持つプライマリチャンバーと、2つの独立したゾーンを持つセカンダリチャンバーを備えています。一次チャンバーの内部には、断熱されたセルフシール式のサーマルバリアとガスフロー式の排気システムがあります。4つのゾーンは独立して制御することができ、酸化、窒化、深層拡散などのさまざまな種類のプロセス手順を実行するために使用されます。FUJIFILM TC 2000は、熱エネルギーに変換された直接電気エネルギーを生成する抵抗発熱体の配列を利用しています。これは断熱層に転送され、均一で均一な熱分布を保証します。個々の発熱体の温度は、一貫したプロセスを確実にするために、調整可能な温度コントローラを使用して制御されます。高度なPLCベースのクローズドループ制御システムは、TC 2000のプログラミングと動作を管理します。これには、PID制御のプロセスチャンバー温度、ドア操作、アラーム管理機能が含まれます。ユーザーフレンドリーなタッチスクリーンインターフェイスにより、FUJIFILM TC 2000のプログラミングが迅速かつ簡単になります。TC 2000はフィルムの成長、活性化の反射、ドーパント拡散および前熱処置のためのような適用シナリオの広い範囲のために適しています。また、サーマルガード、連続シャフト、取り外し可能な真空ポートなど、幅広い互換性のあるアクセサリーで使用できるように設計されており、さまざまな設定で使用することができます。FUJIFILM TC 2000は、三菱コントローラ、拡散エレベーター、メッシュタイプの加熱素子を標準装備し、層の厚さを正確に制御します。また、蒸発ガス用の通気口、安全インターロック、温度測定用のピロメーターなど、さまざまな安全機能も備えています。全体的に、TC 2000は、最高の製造要件を満たすように設計された信頼性の高い強力な拡散炉です。FUJIFILM TC 2000は、高度な制御および加熱素子を活用して、高精度で再現性のある薄く複雑な金属層を一貫して提供することができます。