中古 DIRE 10 #9119220 を販売中

DIRE 10は、シリコン（Si）およびドープ多結晶シリコン（DPSC）の製造に使用される拡散炉および付属アクセサリーです。炉とその付属品は、高性能半導体の開発のための貴重なツールです。10炉は1150°Cまで温度で働くことができ、30時間まで持続する操業を処理することができます。高度な自動制御装置を搭載し、精度と効率を確保するためにシームレスな加熱および冷却システムを利用しています。このシステムは堅い温度調整および信頼できる結果を可能にします。炉はまた均一な暖房および均一なドーピングを保障するために自動化された石英およびアルミナのるつぼシステムが装備されています。このユニットは、窒素、リン、ホウ素の前駆体、およびゲルマニウムドーピングによる優れたリードドーピングを可能にします。るつぼは、高性能ランプによって駆動され、効率的に分散電力の最大7.5kW/cm2を生成することができます。炉の付属品には石英やアルミナの消耗品や補助部品があり、最適な性能と安全性を実現するよう設計されています。石英とアルミナ消耗品は、炉の汚染を防ぎ、ガスや試薬が混入しないように設計されています。補助部品は、炉の効率的な充填と排水、およびるつぼ温度の正確な制御を可能にします。DIRE 10はまた正確な流れ制御および一貫した結果を提供するように設計されているガスおよび試薬の配達機械を含んでいます。このツールは完全に自動化されており、高度なセンサーとコントローラを使用して正確な動作と信頼性の高い結果を保証します。10は高い収穫および一貫して優秀な物質的な質で起因する信頼でき、有効な拡散プロセスをユーザーに与えるように設計されています。DIRE 10は、高精度の温度制御、効率的な石英およびアルミナ消耗品、自動ガスおよび試薬の配送資産により、一貫した高性能な結果を保証します。