中古 CENTROTHERM VLO 180-H2 #9255736 を販売中

CENTROTHERM VLO 180-H2は、CENTROTHERM VLO製品ファミリーの拡散炉およびアクセサリです。この製品はエレクトロニクス用途向けに設計されており、加熱および冷却サイクルのすべてのレベルで高精度の温度制御を提供します。VLO 180-H2は、マイクロエレクトロニクスやオプトエレクトロニクス業界でよく使用される金属系蒸気相エピタキシャル成長プロセスに最適化されています。モジュラー構造で設計されたCENTROTHERM VLO 180-H2は、ベースプレート長1800 mmのホットウォール炉とDM-210のメインコントローラで構成され、独立してまたは最大3つの追加モジュールで動作できます。300°Cから1300°Cまでの幅広いプロセス温度を提供し、複数の熱帯域を監視できるため、さまざまなアプリケーションやプロセスに適しています。ホットウォールの延長長さは、セルフトランスポータブル基板およびガス配電チャンバーと組み合わされて、信頼性が高く効率的です。VLO 180-H2には、マルチゾーンセンサ抵抗、前面/背面パージ、ステンレス製の流量計を備えた上下ガスバルブ、およびストレス軽減のための最適化されたサーマルプロファイルを含むCVDパフォーマンスパッケージが装備されています。高度な熱プロファイルは、超高品質エピタキシーフィルム用の4つのあらかじめ定義された温度段階で構成されています。また、25 watts/cm²の消費電力とデュアルスクラバーの組み合わせを備えた8ゾーンヒーターを備えています。設計には、毎日のメンテナンスのためのトップダウンのサセプターリフトシステムと、最適な均質性のための可変/調整可能なサセプター直径が含まれています。CENTROTHERM VLO 180-H2は、高精度の温度制御システムを備えており、プロセスパラメータの信頼性の高い統合で設計されています。グラファイトサセプターにより、より高い温度均質性を実現します。VLO 180-H2のコンパクトさと柔軟性により、オンラインプロセス診断用の遠隔監視システムや、プロセスの簡素化と高品質な結果を可能にする自動インターフェイスなど、エレクトロニクス業界の幅広いアプリケーションに適しています。