中古 LAM RESEARCH 2080 TCU #293806959 を販売中

LAM RESEARCH 2080 TCUは、半導体製造業に冷却ソリューションを提供するように設計された再循環、熱交換器ベースのチラーです。効率的な温度制御設計により、プロセスの温度安定性を維持し、さまざまなアプリケーションで部品表面を保護しながら廃棄物を削減できます。2080 TCUは、85°F （29°C）の周囲温度と毎分最大800ガロン（GPM）の流量で最大20,000ワットの冷却能力を提供するように設計されています。低温を必要とするアプリケーションを処理するための汎用性の高い冷却システムを提供します。冷却器の熱交換器は、液体対空熱交換器を介してプロセスループから周囲大気への熱を効率的に拒否します。これにより、プロセスの温度安定性が確保され、部品表面の保護に役立ちます。LAM RESEARCH 2080 TCUはまた、可変冷却負荷用の可変速度ファンドライブを使用してエネルギー消費を削減する、エネルギー効率の高い設計を採用しています。チラーの可変速度ドライブは、温度設定ポイント制御を最適化するのに役立ち、ユーザーは低温から高温まで冷却を変化させることができます。さらに、このチラーは、さまざまなアプリケーションのニーズを満たすために複数の構成オプションを備えたモジュラー設計を提供します。2080 TCUは、チラー内の蒸発器、コンデンサー、拡張バルブ、サーモスタット、ポンプなどのすべてのコンポーネントに簡単にアクセスできる統合設計を備えています。蒸発器およびコンデンサーのコイルは高められた熱伝達の有効性のために設計されています。これは、プロセス温度を制御する際に最大限の効率を確保するのに役立ちます。チラーはまた、システム障害から保護するために凍結保護や温度警報など、いくつかの安全機能を備えて設計されています。LAM RESEARCH 2080 TCUには、高価なダウンタイムと停止を回避するための高度な診断および回路が装備されています。ユーザーフレンドリーなインターフェースにより、アラームから水位制御まで、さまざまな機能を制御できます。全体として、2080 TCUは、高効率で温度制御された冷却システムを必要とする半導体メーカーにとって信頼できるデバイスです。高度な設計機能により、安定したプロセス温度、エネルギー消費量の削減、迅速なトラブルシューティングを実現します。このスリラーは、生産の有効性と信頼性を高めながら、プロセス環境を制御しようとしている人にとって理想的な選択肢です。