中古 VARIOUS Photolithography, Evaporation, and Encapsulation Line #293812064 を販売中

半導体・マイクロエレクトロニクス業界では、様々なフォトリソグラフィ、蒸発、カプセル化ライン機器が重要な役割を果たしており、集積回路、センサ、その他の電子部品の生産を可能にしています。これらの洗練された機械は、クリーンルーム環境で薄膜、パターン回路を堆積させ、敏感な電子構造を保護するために使用されます。このラインでは、機器の主な詳細を調べてみましょう。1.Photolithography Equipment：-Qty： 3ユニット-Make/Model： Canon FPA-5550iZ2 i-line stepper-説明：Canon FPA-5550iZ2 i-line stepperは、サブミクロン分解能パターニング用に設計された高性能フォトリソグラフィ装置です。365nmのi-line波長を利用して、フォトマスクを優れた精度でフォトレジスト被覆基板に転送します。このステッパーは高度なアライメントと露出制御機構を備えており、フロントエンドの半導体製造プロセスに適しています。2.蒸発装置：-Qty： 2ユニット-Make/Model： AJA International ATC Orion 8 UHV-説明：AJA International ATC Orion 8 UHVは、真空環境での薄膜蒸着に使用される汎用性の高い蒸発システムです。最大8個のマグネトロンスパッタリング源を搭載し、複数の材料を同時に沈殿させることができます。UHV設計は、基板温度、圧力、蒸着速度などの蒸着パラメータを正確に制御することにより、高品質のフィルム成長を保証します。3.カプセル化装置：-Qty： 1ユニット-Make/Model： Nordson ASYMTEK Forte SL-説明：Nordson ASYMTEK Forte SLは、マイクロエレクトロニクスアセンブリの分配およびコーティング用途向けに設計された最先のカプセル化機です。このツールは、ジェット、ニードルディスペンス、およびフィルムコーティング技術を使用して正確な流体分配機能を提供します。Forte SLには、プロセス制御と監視のための高度なソフトウェアが搭載されており、繊細な電子部品の信頼性の高いカプセル化を可能にします。これらの機器コンポーネントは、複雑な電子デバイスの製造と保護を可能にする包括的なフォトリソグラフィ、蒸発、およびカプセル化ラインをまとめて形成します。フォトリソグラフィ装置は、半導体基板の複雑なパターンを定義するために不可欠であり、蒸発装置は、制御された厚さと組成で薄膜の堆積を容易にする。最後に、カプセル化装置は環境要因および機械損傷からの電子部品の信頼できる保護を保障します。結論として、上記のフォトリソグラフィ、蒸発、およびカプセル化ライン機器は、半導体およびマイクロエレクトロニクス業界で使用される最先端の技術を表しています。これらのツールは、高解像度パターニング、精密な薄膜成膜、および信頼性の高い電子部品のカプセル化を実現するために不可欠であり、最終的には高度な集積回路および電子デバイスの生産に貢献します。