中古品 拡散炉＆付属品 を販売中
拡散炉とアクセサリーは、特にシリコンウェーハ上に薄膜を作成する過程で、半導体産業において重要な役割を果たします。これらの炉は、制御された環境を提供するように設計されており、拡散プロセスが正確かつ正確に行われるようにします。拡散炉は、炉室、ガス供給システム、温度制御システム、ウェーハカルーセルなど、いくつかの重要なコンポーネントで構成されています。炉の部屋はウェーハが置かれ、高温、通常800から1200の摂氏の間に服従するところである。この高温により、ドーパント原子がシリコン基板に拡散し、その電気特性が変化します。ガスデリバリーシステムは、ドーパントガスを炉室に納入する責任があります。これらのガスは、最終製品の望ましい電気特性に基づいて慎重に選択されています。温度制御システムは、炉が所望の温度で動作し、プロセス全体で温度の均一性を維持することを保証します。ウエハカルーセルは、シリコンウェーハを保持し、拡散プロセス中にそれらを回転させます。この回転により、ドーパントガスがウェーハ全体に均等に分布し、ドーピングが均一になります。拡散炉に加えて、炉と一緒に一般的に使用されるいくつかの付属品があります。拡散工程でウェーハを保持するクォーツボートや、ウェーハを安全かつ効率的に取り扱うためのローディングツールなどがあります。全体として、拡散炉とアクセサリは半導体産業において不可欠なツールであり、ドーパント原子をシリコンウェーハに正確に制御し均一に分布させることができます。これは、高性能半導体デバイスの製造において重要な役割を果たします。
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