中古 KLA / TENCOR AIT XP+ #78831 を販売中

KLA/TENCOR AIT XP+は、高度なウェハテストおよび計測機器です。このシステムは、半導体ウェーハ上の薄膜材料の欠陥や不純物を検出して識別するように設計されています。KLA AIT XP+は、厚さ、エッチング率、アスペクト比などのパラメータを測定することができます。また、非均一性を検出する機能も備えているため、メーカーはウェーハが仕様内にあることを確認することができます。TENCOR AIT-XP+は独立したユニットであり、独立して使用するか、既存の生産ラインに統合することができます。この機械は、試験室、計測ユニット、データ解析モジュールの3つの主要コンポーネントで構成されています。このチャンバーは、ヘリウムネオンレーザーやフルスペクトラムカメラを含む高度な光学系を利用して、ウェハのトポロジーをスキャンして測定します。KLA AIT-XP+で使用されるレーザーラインスキャン法は、厚さ、アスペクト比、エッチレートなどの薄膜パラメータを正確に測定するように設計されています。KLA/TENCOR AIT-XP+の計測ユニットは、自動計測ツールを備えています。このアセットは、ウェーハ全体をスキャンし、結果のデータを格納された値と比較して、精度を確保し、薄膜材料の欠陥を検出することによって機能します。自動メトロロジーモデルには、インラインの自動欠陥レビューも含まれており、オペレータは発生する問題を迅速かつ効率的に特定してマークすることができます。最後に、データ解析モジュールは、ウェーハの包括的なビューを提供します。これにより、オペレータは非均一性を検出し、各ウェハの完全なジオメトリと歩留まりを分析することができます。データを保存でき、検出された問題を簡単にソースに追跡できます。このようにして、オペレータは迅速に問題を特定し、迅速に対処することができます。AIT-XP+は、半導体ウェーハに含まれる薄膜材料の欠陥、非均一性、表面粗さの検査および測定に最適です。この装置は、生産と研究の両方の業界の要求の厳しいニーズを満たすように設計されています。洗練された光学系、自動計測システム、データ解析モジュールにより、ウェーハの処理時間を短縮し、歩留まり損失のリスクを最小限に抑えることができます。