中古 EPIPLUS / ETAMAX Plato #9260679 を販売中

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ID: 9260679
ウェーハサイズ: 2"-8"
ヴィンテージ: 2010
PL Mapping system, 2"-8" X-Y Stage Cassette loading Flat zone finder (2) Cassettes for 2"-8" wafer Spectrometer: Wavelength range: 420 nm Hardware pixel resolution: 0.13 nm/pixel Resolution: 0.5 mm for 2" 1 mm of 4" 2 mm for 8" Thickness: Measurement method: Optical interference by reflection Accuracy / Reproducibility: 3% for GaN film Photo Luminescence (PL): Measurement items: WP (Peak) WD (Dominant) Integrated and peak intensity FWHM Accuracy: 5% (Peak intensity / Integrated intensity) <1 nm (Wp / FWHM) Intensity measurement: High sensitive photo detector (3) Pumping lasers: 266, 405, 532 Bowing measurement: Reproducibility: ±5 um Measuring range: 20 - 4000 um Cap (2" Profile): <10 sec Bowing mapping Input voltage: 220 V Current: 30 A Compressed air: 0.2~0.4 MPa 2010 vintage.
EPIPLUS/ETAMAX Platoは、KLA Tencor Corporationが開発したウェハテストおよび計測機器です。これらの部品の品質と信頼性を確保するために、半導体ウェーハに搭載されている半導体デバイスを検査および測定するように設計されています。このシステムは、高度な検査および計測技術の範囲を使用して、ウェーハだけでなく、それに関連するさまざまなパラメータを正確に測定、プロファイル、および検査します。ETAMAX Platoユニットは、自動ウェーハステージ、高度な光学系、ウェーハを分析するオンボードツールなど、いくつかのコア要素で構成されています。自動化されたウェーハステージは、光学系の下にウェーハを正確に配置し、分析のためにウェーハの重要な画像をキャプチャします。ウェーハのイメージングとスキャンを担当する高度な光学系は、計測要件と検査目標を満たすためにさまざまな光学機能に構成することができます。EPIPLUS Platoマシン上のオンボードツールには、最先端のソフトウェアが含まれており、欠陥を識別するプロセスを自動化します。このソフトウェアは、ノジュール、ボイド、マイクロクラック、その他の表面異常などの画像パターンに基づいて、さまざまな種類のウェーハ欠陥を識別することができます。さらに、オンボードツールは計測スキャナとビデオスコープで構成されており、CD(臨界寸法)測定、CDベースの歩留まり、オーバーレイ測定など、ウェーハのさまざまなパラメータを測定できます。プラトツールにはモジュラー設計が施されており、お客様のニーズに合わせて様々なツールやコンポーネントを簡単に追加または削除できます。その結果、このアセットは、任意のウェーハ開発プロセスのニーズに合わせて高度にカスタマイズすることができます。モジュラー設計は、モデル構成と拡張性の面でも幅広い柔軟性を提供します。EPIPLUS/ETAMAXプラトン装置は、高度な性能と超高精度で有名です。信頼性と再現性の高い測定結果を提供することが証明されており、エラーのリスクを低減し、プロセスの歩留まりを改善するのに役立ちます。全体として、ETAMAX PlatoはKLA Tencor Corporationによって開発された高度なウェハテストおよび計測システムです。その膨大な設計柔軟性、高度なコンポーネント、および信頼性の高い結果は、ウェーハ検査および計測プロセスに人気のある選択肢です。
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