中古 ULTRATECH Star 100 #9252513 を販売中

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ID: 9252513
Stepper Illumination field size: 39 x 18 mm Light pipe type: Diffuser Field size: 30 x 18 mm MVS Type: Patmax Series 2 bridge Flipper less Reticle size: 3" x 5" PC With windows 2000 Platform Air probe type: Round Edge switch: Air probe Theta stage: Pop-up Wafer handler: Round chuck, 4" Autoloader, 4" Options: Chuck and autoloader, 5" and 6" Upgraded to automation robot system 2006 vintage.
ULTRATECH Star 100ウェハステッパーは、半導体ウェハ上の大小の構造をパターン化するために使用される高度なリソグラフィー工具です。ウエハー全体の高精度なフォーカスとアライメントを維持しながら、高解像度、高精度の画像を生成することができる、最高レベルのステッパーです。ULTRATECH STAR100は、KrF液浸リソグラフィと呼ばれる高度な光学照明モードを採用しています。この技術は、深紫外線照明源とウェーハと照明領域の化学反応を用いており、焦点深度が大きく、KrF源のスポットサイズが小さいため、高解像度になります。Star 100の最先端のデュアル軸プロジェクションオプティクスにより、高耐久性要件を備えたイメージング機能を非常に微調整できます。また、プロジェクションオプティクスは、画像装置のサブミクロン分解能とともに、投影されたリソグラフィパターンが最高品質であることを保証する高い数値開口率を提供します。STAR100の超精密段階は、そのイメージング機能をさらに強化します。このステージは、高解像度のモーションコントロールシステムと、クラス最高のアライメント精度を得るために微調整されたインデックスドライブを組み合わせています。ステージはX軸とY軸の両方を制御し、0。5ミクロンの位置決め精度を実現します。基板制御には微結晶ダイヤモンドチャックユニットを採用しています。このマシンはエッジ効果を排除し、最適なパターン転送のためにウェーハ全体の均一な温度分布を保証します。ULTRATECH STAR100のソース/エクスポージャー制御は、優れた再現性と信頼性を目指して設計されています。それに露出プロセスの複雑な微調整を可能にするレーザー力からシャッター速度への調節可能な用具6変数の範囲が、あります。最後に、Star 100には、製造プロセスでエラーが発生する前に潜在的な問題を検出できる高度な故障検出および修正アセットが装備されています。このモデルは継続的にウェーハをスキャンし、任意の不一致のパラメータを監視し、任意の存在する場合は、アラームを有効にするか、自動的にプロセスパラメータを調整することができます。
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